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PECVD法制备硅与碳化硅纳米线及其研究 学位论文
2015
作者:  潘树亮
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PECVD下基底温度对SiC薄膜形态、成分及生长速度的影响 期刊论文
无机材料学报, 2013, 期号: [db:dc_citation_issue], 页码: 201-206
作者:  于方丽;  白宇;  秦毅;  岳冬;  罗才军
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一种在SiC材料上生长SiO2钝化层的方法 专利
专利号: CN102810465, 申请日期: 2012-12-05,
作者:  周静涛;  李博;  申华军;  白云;  汤益丹
收藏  |  浏览/下载:8/0  |  提交时间:2016/06/20
纳米柱4H-SiC雪崩光电二极管及PECVD法生长氢化非晶碳化硅的光电特性研究 学位论文
2011, 2011
洪荣墩
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硅基垂直腔面光发射器件的研制 期刊论文
2010, 2010
姚永昭; 岳瑞峰; 刘理天; YAO Yongzhao; YUE Ruifeng; LIU Litian
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PECVD法制备非晶碳化硅薄膜的研究 学位论文
2010
作者:  岳冬
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PECVD制备a-SiC:H薄膜及激光退火研究 学位论文
2009, 2009
黄俊
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带电粒子束作用下碳纳米管结构转变的实验研究 学位论文
博士, 上海应用物理研究所: 中国科学院上海应用物理研究所, 2006
胡建刚
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PECVD SiC材料刻蚀技术 期刊论文
半导体学报, 2006
陈晟; 李志宏; 张国炳; 郭辉; 王煜; 田大宇
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PECVDSiC薄膜激光退火实验研究 其他
2006-01-01
罗睿; 郭辉; 张海霞; 王煜; 李素兰; 张秀兰; 张国炳
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