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| 130nm部分耗尽绝缘体上硅工艺晶体管总剂量效应及模型研究 学位论文 中国科学院新疆理化技术研究所: 中国科学院大学, 2019 作者: 席善学 收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2019/07/15
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| 60Co-γ射线和电子束对CCD辐射效应的比较研究 学位论文 硕士, 北京: 中国科学院大学, 2016 作者: 武大猷 收藏  |  浏览/下载:19/0  |  提交时间:2016/09/27
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| 60Co-γ射线和电子束对CCD辐射效应的比较研究 学位论文 中国科学院新疆理化技术研究所: 中国科学院大学, 2016 作者: 武大猷 收藏  |  浏览/下载:6/0  |  提交时间:2016/09/27
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| 电离辐射对部分耗尽绝缘体上硅器件低频噪声特性的影响 期刊论文 物理学报, 2015, 卷号: 64, 期号: 7, 页码: 393-398 作者: 刘远; 陈海波; 何玉娟; 王信; 岳龙 收藏  |  浏览/下载:24/0  |  提交时间:2015/06/26
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| 一种基于绝缘体上硅的射频LDMOS晶体管结构 专利 专利号: CN201110007880.1, 申请日期: 2014-10-22, 公开日期: 2012-07-18 作者: 刘刚; 刘梦新; 毕津顺; 罗家俊; 韩郑生 收藏  |  浏览/下载:7/0  |  提交时间:2016/04/01 |
| 多次可编程半导体器件及其制造方法 专利 申请日期: 2012-09-05, 作者: 钟汇才; 梁擎擎; 朱慧珑 收藏  |  浏览/下载:2/0  |  提交时间:2017/06/13 |
| 一种制作部分耗尽SOI器件体接触结构的方法 专利 专利号: CN200810116043.0, 申请日期: 2012-03-21, 公开日期: 2010-01-06 作者: 韩郑生; 毕津顺; 宋文斌 收藏  |  浏览/下载:10/0  |  提交时间:2010/11/26 |
| 可完全消除衬底辅助耗尽效应的SOI超结LDMOS结构 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN101916779A, 申请日期: 2010-12-15, 公开日期: 2010-12-15 程新红; 何大伟; 王中健; 徐大伟; 宋朝瑞; 俞跃辉 收藏  |  浏览/下载:133/0  |  提交时间:2012/01/06 |
| 基于绝缘体上硅的双探头PMOS辐射剂量计 专利 专利号: CN200710179354.7, 申请日期: 2010-12-08, 公开日期: 2009-06-17 作者: 赵超荣; 刘梦新; 韩郑生; 刘刚 收藏  |  浏览/下载:7/0  |  提交时间:2010/11/26 |
| 一种基于垂直栅SOI CMOS器件的超结结构及其制作方法 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN101789435A, 申请日期: 2010-07-28, 公开日期: 2010-07-28 程新红; 何大伟; 俞跃辉; 肖德元; 王中健; 徐大朋 收藏  |  浏览/下载:15/0  |  提交时间:2012/01/06 |