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| 一种总剂量辐照对PMOSFET负偏压温度不稳定性影响的试验方法 专利 申请日期: 2018-05-15, 作者: 崔江维; 郑齐文; 魏莹; 孙静; 余学峰![](/image/person.jpg)
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| 一种总剂量辐照对PMOSFET负偏压温度不稳定性影响的试验方法 专利 申请日期: 2018-05-15, 公开日期: 2020-10-09 作者: 崔江维; 郑齐文; 魏莹; 孙静; 余学峰
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| 沟道宽度对65nm金属氧化物半导体器件负偏压温度不稳定性的影响研究 期刊论文 电子学报, 2018, 卷号: 46, 期号: 5, 页码: 1128-1132 作者: 崔江维; 郑齐文; 余德昭; 周航; 苏丹丹
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| 纳米PMOSFET负偏压温度不稳定性测试方法 期刊论文 固体电子学研究与进展, 2017, 卷号: 37, 期号: 6, 页码: 433-437 作者: 崔江维; 郑齐文; 余徳昭; 周航; 苏丹丹
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| 深亚微米PMOSFET的NBTI效应研究 会议论文 第十七届全国半导体集成电路、硅材料学术会议, 三亚, 2011 作者: 余学峰![](/image/person.jpg)
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| ECR等离子体的轫致辐射谱和极紫外光研究 学位论文 2008 赵环昱
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| 用直接隧道栅电流在线表征PMOSFET负偏压温度不稳定性 期刊论文 中国集成电路, 2007 贾高升; 许铭真
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| MOS结构低温负偏压温度不稳定性 期刊论文 半导体学报, 1994, 期号: 04 陆德仁; 朱德光
![](/themes/default/image/downing1.png) 收藏  |  浏览/下载:12/0  |  提交时间:2012/03/29 |
| 快速热生长二氧化硅-硅结构负偏压温度不稳定性 期刊论文 半导体学报, 1990, 期号: 06 陆德仁; J.J.WORTMAN
![](/themes/default/image/downing1.png) 收藏  |  浏览/下载:6/0  |  提交时间:2012/03/29 |