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科研机构
微电子研究所 [7]
内容类型
期刊论文 [6]
专利 [1]
发表日期
2005 [7]
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共7条,第1-7条
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发表日期:2005
专题:微电子研究所
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一种替代栅的制备方法
专利
专利号: CN1841666, 申请日期: 2005-03-31, 公开日期: 2006-10-04, 2010-11-26
作者:
徐秋霞
;
李瑞钊
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2010/11/26
体串联电阻对体接触SOI数字D触发器速度特性的影响
期刊论文
电子器件, 2005, 卷号: 28, 期号: 4, 页码: 5,778-781,784
作者:
韩郑生
;
吴峻峰
;
钟兴华
;
李多力
;
海潮和
收藏
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2010/05/26
D触发器
Soi
体接触(bc)
体串联电阻
输出功率密度为2.23W/mm的X波段AlGaN/GaN功率HEMT器件
期刊论文
半导体学报, 2005, 卷号: 26, 期号: 10, 页码: 6,1865-1870
作者:
李晋闽
;
王晓亮
;
刘新宇
;
胡国新
;
王军喜
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2010/05/26
Algan/gan
高电子迁移率晶体管
Mocvd
功率器件
Zr过渡层对Al膜微结构与性能的影响
期刊论文
压电与声光, 2005, 卷号: 27, 期号: 2, 页码: 5,152-155,163
作者:
牛洁斌
;
李冬梅
;
王旭波
;
潘峰
;
刘明
收藏
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2010/05/26
Al膜
Zr过渡层
附着力
电阻
TiN栅及抬高源漏的薄膜全耗尽SOI CMOS器件的模拟研究
期刊论文
微电子学, 2005, 卷号: 35, 期号: 1, 页码: 4,44-46,50
作者:
连军
;
海潮和
收藏
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2010/05/26
Fdsoi
Cmos
中间禁带功函数
抬高源漏结构
InP基PHEMT欧姆接触低温合金化工艺的研究
期刊论文
半导体技术, 2005, 卷号: 30, 期号: 10, 页码: 4,15-18
作者:
李潇
;
张海英
;
李海鸥
;
刘亮
;
尹军舰
收藏
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2010/05/26
磷化铟
赝配超晶格高电子辽移率晶体管
低温合金
欧姆接触
金属结单电子晶体管的模型建立及实验验证
期刊论文
半导体学报, 2005, 卷号: 26, 期号: 7, 页码: 5,1323-1327
作者:
张立辉
;
李志刚
;
康晓辉
;
谢常青
;
刘明
收藏
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2010/05/26
单电子晶体管
正统理论
库仑阻塞
量子隧穿
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