Zr过渡层对Al膜微结构与性能的影响

	Zr过渡层对Al膜微结构与性能的影响
	牛洁斌; 李冬梅; 王旭波; 潘峰; 刘明
刊名	压电与声光
	2005
卷号	27 期号:2 页码:5，152-155,163
关键词	Al膜 Zr过渡层附着力电阻
ISSN号	1004-2474
英文摘要	为了增加高频声表面波器件用Al薄膜的功率承受力以及与基体的附着力，同时不增加薄膜在化学反应刻蚀中的难度。并精确地控制图形的尺寸。采用电子束蒸镀法研究了Zr过渡层和薄膜固化工艺对Al膜微结构、形貌、电性能及机械性能的影响。结果表明。适当厚度(5-30nm)的Zr过渡层增强了Al膜的(111)织构，增加了薄膜与LiNbO3基体的结合力，200℃固化后电阻率明显降低．拥有Zr过渡层的Al膜具有良好的工艺性能，通过反应离子刻蚀易获得精确的换能器图形．
语种	中文
公开日期	2010-05-26
内容类型	期刊论文
源URL	[http://10.10.10.126/handle/311049/1232]
专题	微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年）
作者单位	中国科学院微电子研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	牛洁斌,李冬梅,王旭波,等. Zr过渡层对Al膜微结构与性能的影响[J]. 压电与声光,2005,27(2):5，152-155,163.
APA	牛洁斌,李冬梅,王旭波,潘峰,&刘明.(2005).Zr过渡层对Al膜微结构与性能的影响.压电与声光,27(2),5，152-155,163.
MLA	牛洁斌,et al."Zr过渡层对Al膜微结构与性能的影响".压电与声光 27.2(2005):5，152-155,163.