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| 半导体器件及其制造方法 专利 专利号: CN201210293525.X, 申请日期: 2018-09-14, 公开日期: 2014-02-19 作者: 马小龙; 殷华湘; 付作振 收藏  |  浏览/下载:14/0  |  提交时间:2019/03/22 |
| 堆叠纳米线MOS晶体管制作方法 专利 专利号: CN201210392511.3, 申请日期: 2018-07-31, 公开日期: 2014-04-16 作者: 殷华湘; 秦长亮; 付作振; 马小龙; 陈大鹏 收藏  |  浏览/下载:20/0  |  提交时间:2019/03/21 |
| 堆叠纳米线MOS晶体管制作方法 专利 专利号: US9892912, 申请日期: 2018-02-13, 公开日期: 2015-08-13 作者: 殷华湘; 秦长亮; 付作振; 马小龙; 陈大鹏 收藏  |  浏览/下载:17/0  |  提交时间:2019/03/27 |
| 半导体器件制造方法 专利 专利号: CN201210293349.X, 申请日期: 2018-02-13, 公开日期: 2014-02-19 作者: 马小龙; 殷华湘; 付作振 收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2019/03/14 |
| 双金属栅极CMOS器件及其制造方法 专利 专利号: US9384986, 申请日期: 2016-07-05, 公开日期: 2013-10-31 作者: 殷华湘; 付作振; 徐秋霞; 陈大鹏 收藏  |  浏览/下载:10/0  |  提交时间:2017/06/13 |
| 半导体器件及其制造方法 专利 专利号: CN201210067446.7, 申请日期: 2016-03-30, 公开日期: 2013-09-18 作者: 赵超; 殷华湘; 付作振; 徐秋霞; 陈大鹏 收藏  |  浏览/下载:8/0  |  提交时间:2017/06/30 |
| 双金属栅极CMOS器件及其制造方法 专利 专利号: CN201210129587.7, 申请日期: 2015-10-14, 公开日期: 2013-10-30 作者: 殷华湘; 付作振; 徐秋霞; 陈大鹏 收藏  |  浏览/下载:7/0  |  提交时间:2016/09/18 |
| Structure design and film process optimization for metal-gate stress in 20 nm nMOS devices 期刊论文 Journal of Semiconductors, 2013 作者: Yin HX(殷华湘); Fu ZZ(付作振); Ma XL(马小龙) 收藏  |  浏览/下载:16/0  |  提交时间:2014/10/30 |
| 纳米级CMOS器件应力金属栅工程及结构优化研究 学位论文 : 中国科学院大学, 2013 作者: 付作振 收藏  |  浏览/下载:11/0  |  提交时间:2017/10/13 |
| Synapse PACS与银医卡的集成与应用 会议论文 2013中华医学会影像技术分会第21次全国学术大会暨国际影像技术论坛, 北京, 2013-08-15 作者: 付海鸿; 牟文斌; 徐晓磊; 李维作; 王振 收藏  |  浏览/下载:2/0  |  提交时间:2020/01/13 |