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一种基于BCB键合工艺的混合集成激光器及其制作方法
专利
专利号: CN102904159A, 申请日期: 2013-01-30, 公开日期: 2013-01-30
作者:
盛振
;
王智琪
;
甘甫烷
;
武爱民
;
王曦
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2020/01/18
石墨烯应用探索研讨会
期刊论文
集成电路应用, 2013, 卷号: 第10期, 页码: 25
作者:
SICA
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2020/01/04
石墨烯
汽车工业
化学性能
电子信息
生物技术
上海浦东张江
微系统
荣誉会长
集成电路行业
邹世昌
深亚微米闪存分立器件的总剂量辐射效应及加固技术研究
学位论文
博士: 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所) , 2012
刘张李
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浏览/下载:27/0
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提交时间:2013/04/24
总剂量辐射效应
陷阱正电荷
浅沟槽隔离氧化物
辐射加固
0.18 微米嵌入式闪存总剂量辐射效应研究
学位论文
博士: 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所) , 2012
胡志远
收藏
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2013/04/24
MOS器件
闪存单元
总剂量效应
浅沟槽隔离
深亚微米器件沟道长度对总剂量辐照效应的影响
期刊论文
物理学报, 2012, 期号: 5, 页码: 92-96
胡志远
;
刘张李
;
邵华
;
张正选
;
宁冰旭
;
毕大炜
;
陈明
;
邹世昌
收藏
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浏览/下载:44/0
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提交时间:2013/02/22
总剂量效应
浅沟槽隔离
氧化层陷阱正电荷
金属氧化物半导体场效晶体管
0.18μm MOSFET器件的总剂量辐照效应
期刊论文
物理学报, 2011, 期号: 11
刘张李
;
胡志远
;
张正选
;
邵华
;
宁冰旭
;
毕大炜
;
陈明
;
邹世昌
收藏
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2012/04/13
总剂量效应
浅沟槽隔离
氧化层陷阱正电荷
MOSFET
Impact of within-wafer process variability on radiation response
期刊论文
MICROELECTRONICS JOURNAL, 2011, 卷号: 42, 期号: 6, 页码: 883-888
Hu,ZY
;
Liu,ZL
;
Shao,H
;
Zhang,ZX
;
Ning,BX
;
Chen,M
;
Bi,DW
;
Zou,SC
收藏
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2012/04/10
ELSEVIER SCI LTD
Radiation induced inter-device leakage degradation
期刊论文
CHINESE PHYSICS C, 2011, 卷号: 35, 期号: 8, 页码: 769-773
Hu,ZY
;
Liu,ZL
;
Shao,H
;
Zhang,ZX
;
Ning,BX
;
Chen,M
;
Bi,DW
;
Zou,SC
收藏
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2012/04/10
CHINESE PHYSICAL SOC
Enhanced Total Ionizing Dose Susceptibility in Narrow Channel Devices
期刊论文
CHINESE PHYSICS LETTERS, 2011, 卷号: 28, 期号: 7, 页码: 70701
Liu,ZL
;
Hu,ZY
;
Zhang,ZX
;
Shao,H
;
Ning,BX
;
Bi,DW
;
Chen,M
;
Zou,SC
收藏
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2012/04/10
IOP PUBLISHING LTD
Simulation Study of Novel Very-Shallow-Trench-Isolation Vertical Bipolar 'Transistors on PD SOI
期刊论文
CHINESE JOURNAL OF ELECTRONICS, 2011, 卷号: 20, 期号: 4, 页码: 612-616
Zhou,JH
;
Pang,SK
;
Zou,SC
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2012/04/10
TECHNOLOGY EXCHANGE LIMITED HONG KONG
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