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微电子研究所 [17]
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期刊论文 [12]
专利 [5]
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2008 [3]
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专题:微电子研究所
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具有高击穿电压的HEMT及其制造方法
专利
专利号: CN201110116103.0, 申请日期: 2015-04-08, 公开日期: 2012-11-07
作者:
赵超
;
罗军
;
陈大鹏
;
叶甜春
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2016/09/18
一种基于绝缘体上硅的射频LDMOS晶体管结构
专利
专利号: CN201110007880.1, 申请日期: 2014-10-22, 公开日期: 2012-07-18
作者:
刘刚
;
刘梦新
;
毕津顺
;
罗家俊
;
韩郑生
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2016/04/01
一种改善绝缘体上硅电路静电放电防护性能的方法
专利
专利号: CN200710064870.5, 申请日期: 2012-05-23, 公开日期: 2008-10-01
作者:
海潮和
;
曾传滨
;
李多力
;
李晶
;
韩郑生
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2010/11/26
一种沟槽型的绝缘栅双极性晶体管及其制备方法
专利
申请日期: 2012-01-01,
作者:
朱阳军
;
卢烁今
;
赵佳
;
田晓丽
;
吴振兴
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2018/02/07
PDSOI体源连接环形栅nMOS特性研究
期刊论文
固体电子学研究与进展, 2008, 期号: 1
作者:
毕津顺
;
海潮和
收藏
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2010/05/27
部分耗尽绝缘体上硅
环形栅 浮体效应
体源连接
SOI LDMOSFET的背栅特性
期刊论文
半导体学报, 2008, 卷号: 29, 期号: 11, 页码: 5,2148-2152
作者:
毕津顺
;
宋李梅
;
海潮和
;
韩郑生
收藏
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2010/05/27
绝缘体上硅 横向双扩散功率晶体管 背栅效应
源漏硅化物扩散层分离技术对SOINMOS抗ESD的影响
期刊论文
功能材料与器件学报, 2008, 卷号: 14, 期号: 6, 页码: 6,1007-1012
作者:
韩郑生
;
宋文斌
;
许高博
;
曾传滨
收藏
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2010/05/27
绝缘体上硅soi
Esd
源漏硅化物
二次击穿
导通电阻
栅接地nmos器件
绝缘体上硅动态阈值nMOSFETs特性研究
期刊论文
电子器件, 2007, 卷号: 30, 期号: 1, 页码: 4,5_8
作者:
海潮和
;
毕津顺
;
吴峻峰
;
李瑞贞
收藏
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2010/05/26
绝缘体上硅
动态阈值
浮体
PDSOI体源连接环形栅nMOS特 性研究
期刊论文
固体电子学研究与进展, 2007, 卷号: 28, 期号: 1, 页码: 4,12_15
作者:
海潮和
;
毕津顺
收藏
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2010/05/26
部分耗尽绝缘体上硅
环形栅
浮体效应
体源连接
PDSOInMOSFETs关态击穿特性
期刊论文
半 导 体 学 报, 2007, 卷号: 28, 期号: 1, 页码: 5,14_18
作者:
毕津顺
;
海潮和
收藏
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2010/05/26
部分耗尽绝缘体上硅
击穿
背栅沟道注入
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