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| 一种对纳米尺度元件进行套刻的方法 专利 专利号: CN201110087449.2, 申请日期: 2014-12-17, 公开日期: 2012-10-17 作者: 朱效立; 刘明; 谢常青; 方磊; 李冬梅 收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2016/04/14 |
| 一种亚波长极紫外金属透射光栅及其制作方法 专利 专利号: CN201110279269.4, 申请日期: 2014-11-12, 公开日期: 2013-04-03 作者: 朱效立; 史丽娜; 李冬梅; 刘明; 谢常青 收藏  |  浏览/下载:8/0  |  提交时间:2016/04/14 |
| 一种大高宽比衍射光学元件的制作方法 专利 专利号: CN201010544430.1, 申请日期: 2014-03-26, 公开日期: 2012-05-23 作者: 谢常青; 刘明; 朱效立; 史丽娜; 李海亮 收藏  |  浏览/下载:15/0  |  提交时间:2015/05/14 |
| 在厚负性高分辨率电子束抗蚀剂HSQ上制作密集图形的方法 专利 专利号: CN200810116381.4, 申请日期: 2012-03-21, 公开日期: 2010-01-13 作者: 陈宝钦; 刘明; 赵珉; 朱效立 收藏  |  浏览/下载:10/0  |  提交时间:2010/11/26 |
| 采用电子束直写曝光制作声表面波器件的方法 专利 专利号: CN200810222329.7, 申请日期: 2011-10-12, 公开日期: 2010-03-24 作者: 赵以贵; 刘明; 牛洁斌 收藏  |  浏览/下载:6/0  |  提交时间:2010/11/26 |
| 一种电子束曝光散射参数的提取方法 专利 专利号: CN200910080196.9, 申请日期: 2011-09-07, 公开日期: 2009-08-19 作者: 赵珉; 牛洁斌; 刘明; 陈宝钦 收藏  |  浏览/下载:4/0  |  提交时间:2010/11/26 |
| 一种纳米尺度图形的制作方法 专利 专利号: CN200810223398.X, 申请日期: 2011-04-20, 公开日期: 2009-03-11 作者: 刘明; 牛洁斌; 赵珉; 陈宝钦 收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2010/11/26 |
| 一种扫描电镜放大倍率校准标准样品的制作方法 专利 专利号: CN200910303914.4, 申请日期: 2011-04-20, 公开日期: 2009-12-09 作者: 牛洁斌; 刘明; 陈宝钦; 赵珉 收藏  |  浏览/下载:3/0  |  提交时间:2010/11/26 |
| 一种压印模板 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN101770165A, 申请日期: 2010-07-07, 公开日期: 2010-07-07 刘彦伯; 钮晓鸣; 宋志棠; 闵国全; 周伟民; 张静; 万永中; 张挺; 李小丽; 张剑平; 施利毅; 刘波; 封松林 收藏  |  浏览/下载:18/0  |  提交时间:2012/01/06 |
| 采用正性电子抗蚀剂制备金属纳米电极的方法 专利 专利号: CN200510130438.2, 申请日期: 2009-06-03, 公开日期: 2007-06-13 作者: 龙世兵; 陈宝钦; 刘明 收藏  |  浏览/下载:7/0  |  提交时间:2010/11/26 |