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一种对纳米尺度元件进行套刻的方法 专利
专利号: CN201110087449.2, 申请日期: 2014-12-17, 公开日期: 2012-10-17
作者:  朱效立;  刘明;  谢常青;  方磊;  李冬梅
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一种亚波长极紫外金属透射光栅及其制作方法 专利
专利号: CN201110279269.4, 申请日期: 2014-11-12, 公开日期: 2013-04-03
作者:  朱效立;  史丽娜;  李冬梅;  刘明;  谢常青
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一种大高宽比衍射光学元件的制作方法 专利
专利号: CN201010544430.1, 申请日期: 2014-03-26, 公开日期: 2012-05-23
作者:  谢常青;  刘明;  朱效立;  史丽娜;  李海亮
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在厚负性高分辨率电子束抗蚀剂HSQ上制作密集图形的方法 专利
专利号: CN200810116381.4, 申请日期: 2012-03-21, 公开日期: 2010-01-13
作者:  陈宝钦;  刘明;  赵珉;  朱效立
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采用电子束直写曝光制作声表面波器件的方法 专利
专利号: CN200810222329.7, 申请日期: 2011-10-12, 公开日期: 2010-03-24
作者:  赵以贵;  刘明;  牛洁斌
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一种电子束曝光散射参数的提取方法 专利
专利号: CN200910080196.9, 申请日期: 2011-09-07, 公开日期: 2009-08-19
作者:  赵珉;  牛洁斌;  刘明;  陈宝钦
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一种纳米尺度图形的制作方法 专利
专利号: CN200810223398.X, 申请日期: 2011-04-20, 公开日期: 2009-03-11
作者:  刘明;  牛洁斌;  赵珉;  陈宝钦
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一种扫描电镜放大倍率校准标准样品的制作方法 专利
专利号: CN200910303914.4, 申请日期: 2011-04-20, 公开日期: 2009-12-09
作者:  牛洁斌;  刘明;  陈宝钦;  赵珉
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一种压印模板 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN101770165A, 申请日期: 2010-07-07, 公开日期: 2010-07-07
刘彦伯; 钮晓鸣; 宋志棠; 闵国全; 周伟民; 张静; 万永中; 张挺; 李小丽; 张剑平; 施利毅; 刘波; 封松林
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采用正性电子抗蚀剂制备金属纳米电极的方法 专利
专利号: CN200510130438.2, 申请日期: 2009-06-03, 公开日期: 2007-06-13
作者:  龙世兵;  陈宝钦;  刘明
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