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超薄栅氧化层n-MOSFET软击穿后的导电机制 期刊论文
物理学报, 2005
王彦刚; 许铭真; 谭长华; 段小蓉
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The conduction mechanism of stress induced leakage current through ultra-thin gate oxide under constant voltage stresses 期刊论文
中国物理英文版, 2005
Wang, YG; Xu, MZ; Tan, CH; Zhang, JF; Duan, XR
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The statistical analysis of substrate current to soft breakdown in ultra-thin gate oxide n-MOSFETs 其他
2004-01-01
Wang, YG; Shi, K; Jia, GS; Xu, MZ; Tan, CH; Duan, XR
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超薄栅MOS器件热载流子应力下SILC的产生机制 期刊论文
半导体学报, 2003
杨国勇; 霍宗亮; 王金延; 毛凌锋; 王子欧; 谭长华; 许铭真
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一种用于提取LDD结构n-MOSFET热载流子应力下界面陷阱产生的改进方法 期刊论文
半导体学报, 2003
杨国勇; 毛凌锋; 王金延; 霍宗亮; 王子欧; 许铭真; 谭长华
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Stress-induced high-field gate leakage current in ultra-thin gate oxide 期刊论文
固体电子学, 2000
Wei, JL; Mao, LF; Xu, MZ; Tan, CH; Duan, XR
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