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科研机构
河北大学 [6]
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期刊论文 [4]
专利 [2]
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2009 [3]
2008 [2]
2007 [1]
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脉冲激光沉积法制备的Pb(Zr0.4Ti0.6)O3铁电薄膜漏电机理
期刊论文
河北大学学报(自然科学版), 2009, 卷号: 29, 期号: 5, 页码: 474-479
作者:
陈剑辉[1]
;
刘保亭[2]
;
孙杰[3]
;
霍骥川[4]
;
赵敬伟[5]
收藏
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提交时间:2019/12/21
Pb(Zr0.4Ti0.6)O3
漏电机理
铁电薄膜
脉冲激光沉积
蓝宝石衬底上磁控溅射法室温制备外延ZnO薄膜
期刊论文
人工晶体学报, 2009, 卷号: 38, 期号: 1, 页码: 74-78
作者:
周阳[1]
;
仇满德[2]
;
付跃举[3]
;
邢金柱[4]
;
霍骥川[5]
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提交时间:2019/12/21
ZnO薄膜
射频磁控溅射
外延生长
磁控溅射法制备用作铜互连阻挡层的钛-铝薄膜
期刊论文
机械工程材料, 2009, 卷号: 33, 期号: 5, 页码: 83-86
作者:
邢金柱[1]
;
刘保亭[2]
;
霍骥川[3]
;
周阳[4]
;
李晓红[5]
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提交时间:2019/12/21
铜互连
阻挡层
钛-铝薄膜
射频磁控溅射
用于Cu互连阻挡层的非晶Ni-Al薄膜研究
期刊论文
功能材料, 2008, 卷号: 39, 期号: 12, 页码: 2005-2007
作者:
霍骥川[1]
;
刘保亭[2]
;
邢金柱[3]
;
周阳[4]
;
李晓红[5]
收藏
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提交时间:2019/12/31
Cu互连
Ni-Al
扩散阻挡层
一种用于铜互连的导电阻挡层材料及制备方法
专利
申请日期: 2008-01-01, 公开日期: 2008-10-15
作者:
刘保亭[1]
;
马良[2]
;
邢金柱[3]
;
霍骥川[4]
;
边芳[5]
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提交时间:2019/12/31
一种用于铜互连的导电阻挡层材料及制备方法
专利
申请日期: 2007-01-01, 公开日期: 2008-03-26
作者:
刘保亭[1]
;
马良[2]
;
霍骥川[3]
;
邢金柱[4]
;
边芳[5]
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提交时间:2019/12/31
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