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| 超薄氧化锗制备、性质及退火对HfO2/GeO2/Ge MOS结构的影响 学位论文 2012, 2012 路长宝
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| 快速热氧化制备超薄GeO_2及其性质 期刊论文 2012 路长宝; 刘冠洲; 李成; 赖虹凯; 陈松岩
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| PMOS器件叠层结构的制备和栅功函数调节方法 专利 专利号: ZL201110046360.1, 申请日期: 2011-02-25, 公开日期: 2015-05-29 作者: 徐秋霞; 李永亮
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| 一种基于SOI衬底的高介电常数材料栅结构及其制备方法 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN101950758A, 申请日期: 2011-01-19, 公开日期: 2011-01-19 程新红; 徐大伟; 王中健; 何大伟; 宋朝瑞; 俞跃辉
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| 超薄栅MOS器件退化过程中的缺陷势垒 其他 2011-01-01 许铭真; 贾高升; 谭长华
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| 互补型金属氧化物半导体晶体管器件及其制作方法 专利 专利号: CN101740570A, 申请日期: 2010-06-16, 公开日期: 2010-06-16 作者: 王文武 ; 陈世杰
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| 一种双金属栅功函数的调节方法 专利 申请日期: 2009-02-09, 公开日期: 2016-03-18 作者: 许高博; 徐秋霞
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| 软击穿后的MOS器件的微分电导谱及其应用 其他 2009-01-01 许铭真; 谭长华; 段小蓉
![](/themes/default/image/downing1.png) 收藏  |  浏览/下载:3/0  |  提交时间:2015/11/12
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| 一种栅介质/金属栅集成结构的制备方法 专利 专利号: CN101728257A, 申请日期: 2008-10-24, 公开日期: 2010-06-09, 2010-11-26 作者: 柴淑敏; 徐秋霞; 许高博
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| 应用于超薄栅氧化CMOS器件的两种电荷泵改进技术的比较(英文) 期刊论文 功能材料与器件学报, 2008, 期号: 03 王庆学
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