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| SRAM和FRAM器件单粒子与总剂量的协同效应研究 学位论文 中国科学院大学: 中国科学院大学(中国科学院近代物理研究所), 2019 作者: 姬庆刚
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| 130nm部分耗尽绝缘体上硅工艺晶体管总剂量效应及模型研究 学位论文 中国科学院新疆理化技术研究所: 中国科学院大学, 2019 作者: 席善学
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| 体效应对超深亚微米SOI器件总剂量效应的影响 期刊论文 电子学报, 2019, 卷号: 47, 期号: 5, 页码: 1065-1069 作者: 席善学; 陆妩 ; 郑齐文; 崔江维; 魏莹
![](/themes/default/image/downing1.png) 收藏  |  浏览/下载:33/0  |  提交时间:2019/06/21
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| 体效应对超深亚微米SOI器件总剂量效应的影响 期刊论文 电子学报, 2019, 卷号: 47, 期号: 5, 页码: 1065-1069 作者: 席善学; 陆妩; 郑齐文; 崔江维; 魏莹
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| 半导体器件制造方法 专利 专利号: CN201310184801.3, 申请日期: 2018-09-18, 公开日期: 2014-11-26 作者: 唐兆云 ; 闫江 ; 唐波 ; 贾宬; 王大海![](/image/person.jpg)
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| 一种FINFET结构及其制造方法 专利 专利号: CN201410573220.3, 申请日期: 2018-09-07, 公开日期: 2016-05-18 作者: 刘云飞; 尹海洲![](/image/person.jpg)
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| 半导体器件制造方法 专利 专利号: CN201310143802.3, 申请日期: 2018-03-30, 公开日期: 2014-10-29 作者: 朱慧珑 ; 贾宬; 殷华湘![](/image/person.jpg)
![](/themes/default/image/downing1.png) 收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2019/03/14 |
| 浅沟槽隔离制造方法 专利 专利号: CN201210297229.7, 申请日期: 2018-03-30, 公开日期: 2014-03-12 作者: 王桂磊 ; 杨涛 ; 闫江 ; 唐兆云![](/image/person.jpg)
![](/themes/default/image/downing1.png) 收藏  |  浏览/下载:10/0  |  提交时间:2019/03/19 |
| 一种FinFET及其制造方法 专利 专利号: CN201310479356.3, 申请日期: 2018-01-12, 公开日期: 2015-04-29 作者: 尹海洲 ; 刘云飞
![](/themes/default/image/downing1.png) 收藏  |  浏览/下载:4/0  |  提交时间:2019/03/14 |