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SRAM和FRAM器件单粒子与总剂量的协同效应研究 学位论文
中国科学院大学: 中国科学院大学(中国科学院近代物理研究所), 2019
作者:  姬庆刚
收藏  |  浏览/下载:51/0  |  提交时间:2019/11/21
130nm部分耗尽绝缘体上硅工艺晶体管总剂量效应及模型研究 学位论文
中国科学院新疆理化技术研究所: 中国科学院大学, 2019
作者:  席善学
收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2019/07/15
体效应对超深亚微米SOI器件总剂量效应的影响 期刊论文
电子学报, 2019, 卷号: 47, 期号: 5, 页码: 1065-1069
作者:  席善学;  陆妩;  郑齐文;  崔江维;  魏莹
收藏  |  浏览/下载:33/0  |  提交时间:2019/06/21
体效应对超深亚微米SOI器件总剂量效应的影响 期刊论文
电子学报, 2019, 卷号: 47, 期号: 5, 页码: 1065-1069
作者:  席善学;  陆妩;  郑齐文;  崔江维;  魏莹
收藏  |  浏览/下载:41/0  |  提交时间:2020/03/19
半导体器件制造方法 专利
专利号: CN201310184801.3, 申请日期: 2018-09-18, 公开日期: 2014-11-26
作者:  唐兆云;  闫江;  唐波;  贾宬;  王大海
收藏  |  浏览/下载:51/0  |  提交时间:2019/03/22
一种FINFET结构及其制造方法 专利
专利号: CN201410573220.3, 申请日期: 2018-09-07, 公开日期: 2016-05-18
作者:  刘云飞;  尹海洲
收藏  |  浏览/下载:12/0  |  提交时间:2019/03/22
半导体器件制造方法 专利
专利号: CN201310143802.3, 申请日期: 2018-03-30, 公开日期: 2014-10-29
作者:  朱慧珑;  贾宬;  殷华湘
收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2019/03/14
浅沟槽隔离制造方法 专利
专利号: CN201210297229.7, 申请日期: 2018-03-30, 公开日期: 2014-03-12
作者:  王桂磊;  杨涛;  闫江;  唐兆云
收藏  |  浏览/下载:10/0  |  提交时间:2019/03/19
一种FinFET及其制造方法 专利
专利号: CN201310479356.3, 申请日期: 2018-01-12, 公开日期: 2015-04-29
作者:  尹海洲;  刘云飞
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