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上海微系统与信息技术... [6]
内容类型
期刊论文 [6]
发表日期
2012 [6]
学科主题
Engineerin... [4]
Materials ... [2]
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发表日期:2012
内容类型:期刊论文
专题:上海微系统与信息技术研究所
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Studies on H2O-based Atomic Layer Deposition of Al2O3 Dielectric on Pristine Graphene
期刊论文
JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS, 2012, 卷号: 27, 期号: 9, 页码: 956-960
Zhang, YW
;
Wan, L
;
Cheng, XH
;
Wang, ZJ
;
Xia, C
;
Cao, D
;
Jia, TT
;
Yu, YH
收藏
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浏览/下载:85/0
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提交时间:2013/04/17
graphene
atomic layer deposition
Al2O3 dielectrics
Plasma enhanced atomic layer deposition of HfO2 with in situ plasma treatment
期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2012, 卷号: 93, 页码: 15-18
Xu, DW
;
Cheng, XH
;
Zhang, YW
;
Wang, ZJ
;
Xia, C
;
Cao, D
;
Yu, YH
;
Shen, DS
收藏
  |  
浏览/下载:11/0
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提交时间:2013/04/17
PEALD
HfO2
Plasma treatment
High-k
Realization of 850 V breakdown voltage LDMOS on Simbond SOI
期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2012, 卷号: 91, 页码: 102-105
Wang, ZJ
;
Cheng, XH
;
He, DW
;
Xia, C
;
Xu, DW
;
Yu, YH
;
Zhang, D
;
Wang, YY
;
Lv, YQ
;
Gong, DW
;
Shao, K
收藏
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2013/04/17
SOI
Simbond
High voltage device
LDMOS
Studies on H2O-based Atomic Layer Deposition of Al2O3 Dielectric on Pristine Graphene
期刊论文
JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS, 2012, 卷号: 27, 期号: 9, 页码: 956-960
Zhang, YW
;
Wan, L
;
Cheng, XH(重点实验室)
;
Wang, ZJ
;
Xia, C
;
Cao, D
;
Jia, TT
;
Yu, YH(重点实验室)
收藏
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2013/05/10
Materials Science
Ceramics
Plasma enhanced atomic layer deposition of HfO2 with in situ plasma treatment
期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2012, 卷号: 93, 页码: 15-18
Xu, DW
;
Cheng, XH
;
Zhang, YW
;
Wang, ZJ
;
Xia, C
;
Cao, D
;
Yu, YH
;
Shen, DS
收藏
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2013/05/10
Engineering
Physics
Electrical & Electronic
Nanoscience & Nanotechnology
Applied
Optics
Realization of 850 V breakdown voltage LDMOS on Simbond SOI
期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2012, 卷号: 91, 页码: 102-105
Wang, ZJ
;
Cheng, XH(重点实验室)
;
He, DW
;
Xia, C
;
Xu, DW
;
Yu, YH(重点实验室)
;
Zhang, D
;
Wang, YY
;
Lv, YQ
;
Gong, DW
;
Shao, K
收藏
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2013/05/10
Engineering
Physics
Electrical & Electronic
Nanoscience & Nanotechnology
Applied
Optics
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