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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 专题：中国科学院大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Comparison of growth mechanisms of silicon thin films prepared by hwcvd with pecvd 期刊论文 Thin solid films, 2008, 卷号: 516, 期号: 5, 页码: 564-567 作者:  Zhou, Yuqin;  Zhou, Bingqing;  Gu, Jinhua;  Zhu, Meifang;  Liu, Fengzhen 收藏  |  浏览/下载：28/0  |  提交时间：2019/05/10 Hwcvd  Pecvd  Silicon thin film  Deposition process  Growth mechanism  Computer simulation   The optimization of interfacial properties of nc-si : h/c-si solar cells in hot-wire chemical vapor deposition process 期刊论文 Journal of materials science-materials in electronics, 2007, 卷号: 18, 页码: S33-s36 作者:  Zhang, Qunfang;  Zhu, Meifang;  Liu, Fengzhen;  Zhou, Yuqin 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2019/05/10 Nano-structure in micro-crystalline silicon thin films studied by small-angle x-ray scattering 期刊论文 Thin solid films, 2006, 卷号: 501, 期号: 1-2, 页码: 113-116 作者:  Zhou, BQ;  Liu, FZ;  Gu, JH;  Zhang, QF;  Zhou, YQ 收藏  |  浏览/下载：27/0  |  提交时间：2019/05/10 Micro-crystalline si  Thin film  Nano-structure  Saxs   Surface roughness scaling of microcrystalline silicon films by hot-wire chemical vapor deposition 期刊论文 Journal of crystal growth, 2005, 卷号: 285, 期号: 4, 页码: 491-498 作者:  Gu, JH 收藏  |  浏览/下载：27/0  |  提交时间：2019/05/10 Atomic force microscopy  Roughening  Chemical vapor deposition process  Semiconducting silicon