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一种基于湿法腐蚀制备位相型衍射光学元件的方法 专利
专利号: CN201110061444.2, 申请日期: 2013-08-07, 公开日期: 2012-09-19
作者:  李海亮;  谢常青;  牛洁斌;  朱效立;  史丽娜
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一种采用X射线曝光制作声表面波器件的方法 专利
专利号: CN200810222328.2, 申请日期: 2012-05-23, 公开日期: 2010-03-24
作者:  李晶晶;  牛洁斌;  朱效立;  刘明;  赵以贵
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一种制作底电极平坦化的有机场效应晶体管的方法 专利
专利号: CN200810240084.0, 申请日期: 2012-03-28, 公开日期: 2010-06-23
作者:  王宏;  刘舸;  刘明;  刘兴华;  商立伟
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在厚负性高分辨率电子束抗蚀剂HSQ上制作密集图形的方法 专利
专利号: CN200810116381.4, 申请日期: 2012-03-21, 公开日期: 2010-01-13
作者:  陈宝钦;  刘明;  赵珉;  朱效立
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曝光电子束正性抗蚀剂的方法 专利
申请日期: 2012-02-17,
作者:  徐秋霞;  牛洁斌;  周华杰
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采用体有源层材料作为前驱体诱导有源层有序生长的方法 专利
专利号: CN200910077674.0, 申请日期: 2011-12-07, 公开日期: 2010-08-11
作者:  刘兴华;  王宏;  商立伟;  柳江;  刘舸
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采用电子束直写曝光制作声表面波器件的方法 专利
专利号: CN200810222329.7, 申请日期: 2011-10-12, 公开日期: 2010-03-24
作者:  赵以贵;  刘明;  牛洁斌
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用于电子束光刻剥离的去除双层胶的方法 专利
专利号: CN200710176930.2, 申请日期: 2011-06-29, 公开日期: 2009-05-13
作者:  刘新华;  刘明;  涂德钰;  商立伟;  谢常青
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一种制备有源层材料取向有序的有机场效应晶体管的方法 专利
专利号: CN200810240077.0, 申请日期: 2011-06-01, 公开日期: 2010-06-23
作者:  柳江;  商立伟;  刘光华;  刘舸;  刘明
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一种纳米尺度图形的制作方法 专利
专利号: CN200810223398.X, 申请日期: 2011-04-20, 公开日期: 2009-03-11
作者:  刘明;  牛洁斌;  赵珉;  陈宝钦
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