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| 一种基于湿法腐蚀制备位相型衍射光学元件的方法 专利 专利号: CN201110061444.2, 申请日期: 2013-08-07, 公开日期: 2012-09-19 作者: 李海亮 ; 谢常青 ; 牛洁斌 ; 朱效立 ; 史丽娜![](/image/person.jpg)
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| 一种采用X射线曝光制作声表面波器件的方法 专利 专利号: CN200810222328.2, 申请日期: 2012-05-23, 公开日期: 2010-03-24 作者: 李晶晶; 牛洁斌 ; 朱效立 ; 刘明 ; 赵以贵
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| 一种制作底电极平坦化的有机场效应晶体管的方法 专利 专利号: CN200810240084.0, 申请日期: 2012-03-28, 公开日期: 2010-06-23 作者: 王宏 ; 刘舸; 刘明 ; 刘兴华 ; 商立伟![](/image/person.jpg)
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| 在厚负性高分辨率电子束抗蚀剂HSQ上制作密集图形的方法 专利 专利号: CN200810116381.4, 申请日期: 2012-03-21, 公开日期: 2010-01-13 作者: 陈宝钦 ; 刘明 ; 赵珉; 朱效立![](/image/person.jpg)
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| 曝光电子束正性抗蚀剂的方法 专利 申请日期: 2012-02-17, 作者: 徐秋霞; 牛洁斌; 周华杰
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| 采用体有源层材料作为前驱体诱导有源层有序生长的方法 专利 专利号: CN200910077674.0, 申请日期: 2011-12-07, 公开日期: 2010-08-11 作者: 刘兴华 ; 王宏 ; 商立伟 ; 柳江 ; 刘舸
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| 采用电子束直写曝光制作声表面波器件的方法 专利 专利号: CN200810222329.7, 申请日期: 2011-10-12, 公开日期: 2010-03-24 作者: 赵以贵; 刘明 ; 牛洁斌![](/image/person.jpg)
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| 用于电子束光刻剥离的去除双层胶的方法 专利 专利号: CN200710176930.2, 申请日期: 2011-06-29, 公开日期: 2009-05-13 作者: 刘新华; 刘明 ; 涂德钰; 商立伟 ; 谢常青![](/image/person.jpg)
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| 一种制备有源层材料取向有序的有机场效应晶体管的方法 专利 专利号: CN200810240077.0, 申请日期: 2011-06-01, 公开日期: 2010-06-23 作者: 柳江 ; 商立伟 ; 刘光华; 刘舸; 刘明![](/image/person.jpg)
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| 一种纳米尺度图形的制作方法 专利 专利号: CN200810223398.X, 申请日期: 2011-04-20, 公开日期: 2009-03-11 作者: 刘明 ; 牛洁斌 ; 赵珉; 陈宝钦![](/image/person.jpg)
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