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INVESTIGATION OF Ta/Ni-Al INTEGRATED FILM USED AS A DIFFUSION BARRIER LAYER BETWEEN Cu AND Si 期刊论文
SURFACE REVIEW AND LETTERS, 2014, 卷号: 21, 期号: 6
作者:  Yang, Lim[1];  Wang, Shi Jie[2];  Huo, Ji Chuan[3];  Li, Xiao Hong[4];  Guo, Jian Xin[5]
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含铜铁电电容器SrRuO_3/Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3/SrRuO_3/Ni-Al/Cu/Ni-Al/SiO_2/Si异质结的研究 期刊论文
物理学报, 2011, 卷号: 60, 期号: 11, 页码: 650-658
作者:  陈剑辉[1];  刘保亭[2];  赵庆勋[3];  崔永亮[4];  赵冬月[5]
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Integration of SRO/PZT/SRO/Ni-Al/Cu/Ni-Al/SiO2/Si ferroelectric capacitor with copper 期刊论文
ACTA PHYSICA SINICA, 2011, 卷号: 60, 期号: 11
作者:  Chen Jian-Hui[1];  Liu Bao-Ting[2];  Zhao Qing-Xun[3];  Cui Yong-Liang[4];  Zhao Dong-Yue[5]
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含铜铁电电容器SrRuO_3/Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3/SrRuO_3/Ni-Al/Cu/Ni-Al/SiO_2/Si 异质结的研究 期刊论文
物理学报, 2011, 卷号: 60, 期号: 11, 页码: 117701-1-117701-9
作者:  陈剑辉[1];  刘保亭[2];  赵庆勋[3];  崔永亮[4];  赵冬月[5]
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Barrier Performance of Various Thick Polycrystalline Ni-Al Films for Integrating PbZr0.4Ti0.6O3 Capacitors on Si 期刊论文
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2010, 卷号: 157, 期号: 6, 页码: G127-G129
作者:  Guo, Y. N.[1];  Liu, B. T.[2];  Zhao, J. W.[3];  Zhou, Y.[4];  Yan, X. B.[5]
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Ni-Al diffusion barrier layer for integrating ferroelectric capacitors on Si 期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2006, 卷号: 88, 期号: 25
作者:  Liu, B. T.[1];  Cheng, C. S.[2];  Li, F.[3];  Ma, L.[4];  Zhao, Q. X.[5]
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