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河北大学 [6]
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INVESTIGATION OF Ta/Ni-Al INTEGRATED FILM USED AS A DIFFUSION BARRIER LAYER BETWEEN Cu AND Si
期刊论文
SURFACE REVIEW AND LETTERS, 2014, 卷号: 21, 期号: 6
作者:
Yang, Lim[1]
;
Wang, Shi Jie[2]
;
Huo, Ji Chuan[3]
;
Li, Xiao Hong[4]
;
Guo, Jian Xin[5]
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提交时间:2019/12/21
Diffusion barrier
Cu interconnect
amorphous Ni-Al
Ta
thin film
sputtering
含铜铁电电容器SrRuO_3/Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3/SrRuO_3/Ni-Al/Cu/Ni-Al/SiO_2/Si异质结的研究
期刊论文
物理学报, 2011, 卷号: 60, 期号: 11, 页码: 650-658
作者:
陈剑辉[1]
;
刘保亭[2]
;
赵庆勋[3]
;
崔永亮[4]
;
赵冬月[5]
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提交时间:2019/12/21
Cu
PZT
铁电电容器
Ni-Al
Integration of SRO/PZT/SRO/Ni-Al/Cu/Ni-Al/SiO2/Si ferroelectric capacitor with copper
期刊论文
ACTA PHYSICA SINICA, 2011, 卷号: 60, 期号: 11
作者:
Chen Jian-Hui[1]
;
Liu Bao-Ting[2]
;
Zhao Qing-Xun[3]
;
Cui Yong-Liang[4]
;
Zhao Dong-Yue[5]
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提交时间:2019/12/21
copper
PZT
ferroelectric capacitor
Ni-Al
含铜铁电电容器SrRuO_3/Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3/SrRuO_3/Ni-Al/Cu/Ni-Al/SiO_2/Si 异质结的研究
期刊论文
物理学报, 2011, 卷号: 60, 期号: 11, 页码: 117701-1-117701-9
作者:
陈剑辉[1]
;
刘保亭[2]
;
赵庆勋[3]
;
崔永亮[4]
;
赵冬月[5]
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提交时间:2019/12/21
Cu
PZT
铁电电容器
Ni-Al
Barrier Performance of Various Thick Polycrystalline Ni-Al Films for Integrating PbZr0.4Ti0.6O3 Capacitors on Si
期刊论文
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2010, 卷号: 157, 期号: 6, 页码: G127-G129
作者:
Guo, Y. N.[1]
;
Liu, B. T.[2]
;
Zhao, J. W.[3]
;
Zhou, Y.[4]
;
Yan, X. B.[5]
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提交时间:2019/12/21
Ni-Al diffusion barrier layer for integrating ferroelectric capacitors on Si
期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2006, 卷号: 88, 期号: 25
作者:
Liu, B. T.[1]
;
Cheng, C. S.[2]
;
Li, F.[3]
;
Ma, L.[4]
;
Zhao, Q. X.[5]
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提交时间:2019/12/31
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