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Controllable a-Si:H/c-Si interface passivation by residual SiH4 molecules in H-2 plasma
期刊论文
SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS, 2018, 卷号: 174, 页码: 233-239
作者:
Liu, Wenzhu
;
Zhang, Liping
;
Cong, Shiyuan
;
Chen, Renfang
;
Wu, Zhuopeng
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浏览/下载:41/0
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提交时间:2019/12/02
Residual SiH4
PECVD
Silicon heterojunction solar cell
A-Si:H/c-Si interface
C-Si surface passivation
Two-dimensional fluid simulation on transient behavior and plasma uniformity in pulsed RF CCP sustained in SiH4/N-2/O-2
期刊论文
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, 2017, 卷号: 50
作者:
Jia, Wen-Zhu
;
Wang, Xi-Feng
;
Song, Yuan-Hong
;
Wang, You-Nian
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/12/02
pulse modulation
SiH4/N-2/O-2 discharge
plasma uniformity
射频容性耦合SiH4/Ar放电中反转电场及电子能量分布的模拟
会议论文
第十八届全国等离子体科学技术会议, 中国陕西西安, 2017-07-01
作者:
王喜凤
;
宋远红
;
戴忠玲
;
王友年
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浏览/下载:6/0
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提交时间:2019/12/02
射频
容性耦合
SiH4/Ar混合气体
反转电场
电子能量分布
二维流体模拟SiH_4/N_2/O_2放电中均匀性改善和前驱物的研究
会议论文
第十八届全国等离子体科学技术会议, 中国陕西西安, 2017-07-01
作者:
贾文柱
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/12/02
SiH4/N2/O2
均匀性
前驱物
Hybrid Simulation of Duty Cycle Influences on Pulse Modulated RF SiH4/Ar Discharge
期刊论文
PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY, 2016, 卷号: 18, 页码: 394-399
作者:
Wang Xifeng
;
Song Yuanhong
;
Zhao Shuxia
;
Dai Zhongling
;
Wang Younian
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2019/12/09
hybrid model
EEDF
pulse modulation
SiH4/Ar mixture
A comparison study of the H + CH4 and H + SiH4 reactions with eight-dimensional quantum dynamics: normal mode versus local mode in the reactant molecule vibration
期刊论文
THEORETICAL CHEMISTRY ACCOUNTS, 2014, 卷号: 133, 期号: 10
作者:
Wang, Yan
;
Li, Jun
;
Guo, Hua
;
Yang, Minghui
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浏览/下载:25/0
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提交时间:2015/06/24
Quantum dynamics
H + CH4
H + SiH4
Normal mode
Local mode
Synthesis and characterization of AlTiSiN/CrSiN multilayer coatings by cathodic arc ion-plating
期刊论文
APPLIED SURFACE SCIENCE, 2014, 卷号: 314
作者:
Yang, B.
;
Tian, C. X.
;
Wan, Q.
;
Yan, S. J.
;
Liu, H. D.
收藏
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2019/12/05
AlTiSiN/CrSiN
SiH4 flowrate
Adhesive force
Microhardness
Tribological performance
The effects of process conditions on the plasma characteristic in radio-frequency capacitively coupled SiH4/NH3/N-2 plasmas: Two-dimensional simulations
期刊论文
CHINESE PHYSICS B, 2013, 卷号: 22, 页码: -
作者:
Liu Xiang-Mei
;
Song Yuan-Hong
;
Jiang Wei
;
Yi Lin
收藏
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2019/12/11
capacitively coupled plasma
process conditions effects
SiH4/NH3/N-2 discharges
Theoretical Studies of the Reaction Paths and Rate Constants for SiH4 + H System
期刊论文
Asian Journal of Chemistry, 2012, 卷号: 24, 期号: 4, 页码: 1798-1804
作者:
Qi, Chuansong
;
Sun XM(孙孝敏)
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2016/04/27
Direct dynamics studies
Variational transition-state theory
H + SiH4 System
Ab initio potential energy surface
Rate constants
硅基薄膜太阳电池(四)
期刊论文
太阳能, 2012, 卷号: 第9期, 页码: 9-12
作者:
张晓丹
;
赵颖
;
熊绍珍
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2019/03/04
薄膜太阳电池
硅基
SiH3
衬底表面
SiH4
等离子
薄膜沉积
示意图
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