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Low Temperature Growth of Ditetragonal Pyramid Diamond by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
期刊论文
SCIENCE OF ADVANCED MATERIALS, 2018, 卷号: 10, 页码: 889-895
作者:
Chen, Shumin[1]
;
Chen, Yong[2]
;
Jiang, Zaifu[3]
;
Long, Jingjie[4]
;
Wu, Fan[5]
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2019/04/24
Nano Diamonds
Ditetragonal Pyramid
RF-PECVD
Raman
XRD
a-Si:H(nc-Si:H)/a-SiC:H多层薄膜的制备与光电特性研究
学位论文
: 河北大学, 2014
作者:
蒋冰[1]
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/21
RF-PECVD技术
多层薄膜
制备工艺
光学特性
电学特性
掺硼和掺磷的氢化纳米硅薄膜及其应用于类叠层太阳电池的研究
期刊论文
表面技术, 2013, 卷号: 42, 页码: 5-8
作者:
孙月峰
;
张维佳
;
宋登元
;
刘嘉
;
张雷
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2020/01/06
RF-PECVD
掺硼
掺磷
纳米硅薄膜
类叠层太阳电池
Effects of the Concentration of MgO in the Catalyst on the Growth of Carbon Nanotubes
期刊论文
molecular crystals and liquid crystals, 2012, 卷号: 569, 页码: 1-9
作者:
Li, Ming-Ji
;
Sun, Jia
;
Li, Hong-Ji
;
Huang, Bao-Kun
;
Yang, Bao-He
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浏览/下载:29/0
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提交时间:2015/11/13
Carbon nanotubes
carbon nano-onion
MgO
Ni
RF-PECVD
nc-Si:H薄膜的微结构特征与光学特性
期刊论文
河北大学学报(自然科学版), 2012, 卷号: 32, 期号: 6, 页码: 592-596
作者:
娄建忠[1]
;
李钗[2]
;
马蕾[3]
;
王峰[4]
;
江子荣[5]
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2019/12/21
RF-PECVD
nc-Si:H薄膜
微结构
光学特性
射频功率对RF-PECVD法制备纳米硅薄膜结构特征和光学特性的影响
期刊论文
功能材料, 2012, 卷号: 43, 期号: 23, 页码: 3329-3332
作者:
娄建忠[1]
;
李钗[2]
;
张二鹏[3]
;
马蕾[4]
;
江子荣[5]
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/21
RF-PECVD
nc-Si∶H薄膜
结构特征
光学特性
高电导率P型纳米硅薄膜的制备及其在薄膜太阳电池中的应用
会议论文
加速功能材料自主创新,促进西部战略性新兴产业发展——2011中国功能材料科技与产业高层论坛, 中国重庆, 2011-11-16
作者:
杨东杰
;
张维佳
;
林军
;
刘嘉
;
孙月峰
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2020/01/06
RF-PECVD
掺硼
p型纳米硅薄膜
太阳电池
Ti-dlc films with superior friction performance
期刊论文
Diamond and related materials, 2010, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 342-349
作者:
Zhao, Fei
;
Li, Hongxuan
;
Ji, Li
;
Wang, Yongjun
;
Zhou, Huidi
收藏
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浏览/下载:23/0
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提交时间:2019/05/10
Rf pecvd
Ti-doped dlc
Ultralow friction
Load
Relative humidity
Ti-DLC films with superior friction performance
期刊论文
Diamond and Related Materials, 2010, 卷号: 19, 页码: 342-349
作者:
Ji L(吉利)
;
Zhou HD(周惠娣)
;
Chen JM(陈建敏)
;
Chen JM(陈建敏)
;
Li HX(李红轩)
收藏
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浏览/下载:39/0
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提交时间:2012/09/28
RF PECVD
Ti-doped DLC
Ultralow friction
Load
Relative humidity
Hydrogenated nanocrystalline silicon thin film prepared by RF-PECVD at high pressure
期刊论文
Journal of Non-Crystalline Solids, 2010, 卷号: 356, 期号: 44-49, 页码: 2552-2556
作者:
Li, Wei
;
Xia, Donglin
;
Wang, Huifang
;
Zhao, Xiujian*
收藏
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/12/04
RF-PECVD
Glass substrate
High pressure
nc-Si:H
Thin film
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