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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序作者升序作者降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序 Ar环境气压对脉冲激光烧蚀制备纳米Si晶粒平均尺寸的影响 期刊论文 物理学报, 2005, 卷号: 54, 期号: 4, 页码: 1683-1686 作者:  Wang, YL[1];  Zhou, Y[2];  Chu, LZ[3];  Fu, GS[4];  Peng, YC[5] 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/31 纳米Si晶粒  脉冲激光烧蚀  表面形貌   具有窄光致发光谱的纳米Si晶薄膜的激光烧蚀制备 期刊论文 物理学报, 2005, 卷号: 54, 期号: 12, 页码: 5738-5742 作者:  Wang, YL[1];  Lu, LF[2];  Yan, CY[3];  Chu, LZ[4];  Zhou, Y[5] 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/31 纳米Si晶粒  脉冲激光烧蚀  薄膜形貌  光致发光   The size distribution of Si nanoparticles prepared by pulsed-laser ablation in pure He, Ar or Ne gas 期刊论文 EUROPHYSICS LETTERS, 2005, 卷号: 69, 期号: 5, 页码: 758-762 作者:  Fu, GS[1];  Wang, YL[2];  Chu, LZ[3];  Zhou, Y[4];  Yu, W[5] 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/31 Influence of inert gas pressure on growing rate of nanocrystalline silicon film prepared by pulsed laser deposition 期刊论文 CHINESE PHYSICS LETTERS, 2004, 卷号: 21, 期号: 1, 页码: 201-202 作者:  Wang, YL[1];  Fu, GS[2];  Peng, YC[3];  Zhou, Y[4];  Chu, LZ[5] 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/31