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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Argon ion beam assisted magnetron sputtering deposition of boron-doped a-Si:H thin films with improved conductivity 期刊论文 J. Non-Cryst. Solids, 2013, 期号: 1, 页码: 177—180 Jianmin Chen; Linqing Wang a,d, Weiyan Wang b, Junjun Huang b, Yuheng Zeng b, Ruiqin Tan c, Weijie Song b, Jianmin Chen a,⁎ 收藏  |  浏览/下载：31/0  |  提交时间：2013/12/16 Argon ion beam assisted magnetron sputtering deposition of boron-doped a-Si:H thin films with improved conductivity 期刊论文 Journal of Non-Crystalline Solids, 2013, 卷号: 378, 页码: 177-180 作者:  Wang LQ(王凌倩);  Wang, Weiyan;  Huang, Junjun;  Zeng, Yuheng;  Tan, Ruiqin 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2015/10/19 Argon ion beam assisted magnetron sputtering  Boron-doped a-Si:H thin film  Dark conductivity   Deposition of dense and smooth Ti films using ECR plasma-assisted magnetron sputtering 期刊论文 SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2009, 卷号: 203, 期号: 22, 页码: 3356-3360 作者:  Zhang, L;  Shi, LQ;  He, ZJ;  Zhang, B;  Lu, YF 收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2016/06/29 Ti thin film  Magnetron sputtering  ECR plasma