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| 反应物输运与Ar/C4F8等离子体中SiO2刻蚀的精度控制 会议论文
第十八届全国等离子体科学技术会议, 中国陕西西安, 2017-07-01
作者: 张赛谦; 杨雪; 戴忠玲; 王友年
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| Deep dry etching of fused silica using C4F8/Ar inductively coupledplasmas 期刊论文
J Mater Sci: Mater Electron, 2016
作者: Liu FM(刘丰满); Lin LC(林来存)
收藏 | 浏览/下载：4/0 | 提交时间：2017/04/14 |
| A Multi-Scale Study on Silicon-Oxide Etching Processes in C4F8/Ar Plasmas 期刊论文
PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY, 2016, 卷号: 18, 页码: 666-673
作者: Sui Jiaxing; Zhang Saiqian; Liu Zeng; Yan Jun; Dai Zhongling
收藏 | 浏览/下载：2/0 | 提交时间：2019/12/09
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| Investigation of fused silica glass etching using C4F8/Ar inductively coupled plasmas for through glass via（TGV）applications 期刊论文
Microsyst Technol, 2015
作者: 林来存; 王启东; 靖向萌
收藏 | 浏览/下载：10/0 | 提交时间：2016/06/02 |
| C4F8/AR混合气体刻蚀SiO2的多目标优化研究 会议论文
2015中国力学大会, 上海, 2015-08-16
作者: 刘佳; 阎军; 戴忠玲; 宋亦旭
收藏 | 浏览/下载：1/0 | 提交时间：2019/12/09 |
| Atomic layer etching of SiO2 under Ar/C4F8 plasmas with pulsed bias 会议论文
The joint 68th Gaseous Electronics Conference, the 9th International Conference on Reactive Plasmas, and the 33rd Symposium on Plasma Processing (GEC-68/ICRP-9/SPP-33)
作者: Dai ZL(戴忠玲); Wang YN(王友年)
收藏 | 浏览/下载：1/0 | 提交时间：2019/12/09 |
| C4F8/Ar等离子体蚀刻蚀SiO2的多尺度研究 学位论文
: 大连理工大学, 2015
作者: 眭佳星
收藏 | 浏览/下载：3/0 | 提交时间：2019/12/09
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