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半导体研究所 [28]
内容类型
期刊论文 [28]
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内容类型:期刊论文
专题:半导体研究所
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InAlN薄膜MOCVD外延生长研究
期刊论文
半导体技术, 2011, 卷号: 36, 期号: 8, 页码: 609-613
作者:
刘乃鑫
;
闫建昌
;
魏同波
;
贠利君
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2012/07/17
采用低温缓冲层技术在Si衬底上生长高质量Ge薄膜
期刊论文
光电子·激光, 2011, 卷号: 22, 期号: 7, 页码: 1030-1033
周志文
;
贺敬凯
;
李成
;
余金中
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2012/07/17
InAs单晶衬底的表面形貌和化学成分分析
期刊论文
人工晶体学报, 2010, 卷号: 39, 期号: 4, 页码: 878-882
作者:
王俊
;
王俊
收藏
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浏览/下载:34/0
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提交时间:2011/08/16
Si衬底上Ge材料的UHVCVD生长
期刊论文
材料科学与工程学报, 2009, 卷号: 27, 期号: 1, 页码: 118-120
作者:
薛海韵
;
成步文
;
薛春来
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浏览/下载:36/0
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提交时间:2010/11/23
Si_(0.75)Ge_(0.25)虚衬底上应变补偿Si/Si_(0.62)Ge_(0.38)量子阱发光
期刊论文
材料科学与工程学报, 2009, 卷号: 27, 期号: 1, 页码: 146-149
廖凌宏
;
周志文
;
李成
;
陈松岩
;
赖虹凯
;
余金中
;
王启明
收藏
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浏览/下载:36/0
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提交时间:2010/11/23
UHV/CVD法生长硅基低位错密度厚锗外延层
期刊论文
半导体学报, 2008, 卷号: 29, 期号: 2, 页码: 315-318
周志文
;
蔡志猛
;
张永
;
蔡坤煌
;
周笔
;
林桂江
;
汪建元
;
李成
;
赖虹凯
;
陈松岩
;
余金中
;
王启明
收藏
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2010/11/23
生长温度对InAs/GaSb超晶格晶体结构和表面形貌的影响
期刊论文
功能材料, 2008, 卷号: 39, 期号: 10, 页码: 1605-1607
作者:
牛智川
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2010/11/23
采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜
期刊论文
半导体学报, 2007, 卷号: 28, 期号: 10, 页码: 1625-1629
作者:
季安
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2010/11/23
Investigation of a chemically treated InP(100) surface during hydrophilic wafer bonding process
期刊论文
materials science and engineering b-solid state materials for advanced technology, 2006, 卷号: 128, 期号: 1-3, 页码: 93-97
作者:
Yu LJ
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浏览/下载:67/0
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提交时间:2010/04/11
surface micro-roughness
contact angle
root-mean-square roughness
SILICON-WAFERS
ROUGHNESS
INP
蓝宝石衬底上单晶InAlGaN外延膜的RF-MBE生长
期刊论文
半导体学报, 2006, 卷号: 27, 期号: 8, 页码: 1382-1385
作者:
王晓燕
;
肖红领
;
王保柱
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浏览/下载:22/0
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提交时间:2010/11/23
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