生长温度对InAs/GaSb超晶格晶体结构和表面形貌的影响
牛智川
刊名功能材料
2008
卷号39期号:10页码:1605-1607
中文摘要采用分子束外延(MBE)技术,在GaSb(100)衬底上外延生长InAs(4ML)/GaSb(8ML)超晶格(SLs)。研究了生长温度(400~440℃)对超晶格晶体结构和表面形貌的影响。结果表明,420℃生长的超晶格结构完整和表面粗糙度最小,其荧光光谱(PL)峰值波长在约2.54μm处,响应光谱50%截止波长在约2.4μm处。通过控制快门顺序形成InSb和混合两种界面,并发现生长温度强烈影响混合界面InAs/GaSb超晶格结构和表面形貌,而对InSb界面超晶格的影响较小。
学科主题半导体物理
收录类别CSCD
资助信息国家自然科学基金资助项目(6 6 7 16.6 6254 5)
语种中文
公开日期2010-11-23
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/15917]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
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GB/T 7714
牛智川. 生长温度对InAs/GaSb超晶格晶体结构和表面形貌的影响[J]. 功能材料,2008,39(10):1605-1607.
APA 牛智川.(2008).生长温度对InAs/GaSb超晶格晶体结构和表面形貌的影响.功能材料,39(10),1605-1607.
MLA 牛智川."生长温度对InAs/GaSb超晶格晶体结构和表面形貌的影响".功能材料 39.10(2008):1605-1607.
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