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科研机构
大连理工大学 [2]
内容类型
会议论文 [2]
发表日期
2009 [1]
2005 [1]
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内容类型:会议论文
专题:大连理工大学
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外切磁场对ICP增强非平衡磁控溅射沉积Cu的影响
会议论文
第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会, 中国辽宁大连, 2009-07-20
作者:
齐雪莲
;
马腾才
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提交时间:2019/12/24
非平衡磁控溅射
Cu
ICP
等离子体密度
离子密度
电子温度
电离度
电子密度
导电膜
空间分布
射频等离子体增强非平衡磁控溅射沉积技术
会议论文
TFC'05全国薄膜技术学术研讨会, 中国大连, 2005-09-01
作者:
齐雪莲
;
任春生
;
马腾才
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2020/01/02
非平衡磁控
溅射
ICP增强电离
沉积
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