射频等离子体增强非平衡磁控溅射沉积技术 | |
齐雪莲; 任春生; 马腾才 | |
2005 | |
会议名称 | TFC'05全国薄膜技术学术研讨会 |
会议日期 | 2005-09-01 |
会议地点 | 中国大连 |
关键词 | 非平衡磁控 溅射 ICP增强电离 沉积 |
页码 | 1 |
会议录 | TFC'05全国薄膜技术学术研讨会 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 会议论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6146078 |
专题 | 大连理工大学 |
作者单位 | 三束材料改性国家重点实验室大连理工大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 齐雪莲,任春生,马腾才. 射频等离子体增强非平衡磁控溅射沉积技术[C]. 见:TFC'05全国薄膜技术学术研讨会. 中国大连. 2005-09-01. |
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