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西安光学精密机械研... [26]
大连理工大学 [1]
大连化学物理研究所 [1]
内容类型
专利 [28]
发表日期
2017 [1]
2015 [2]
2013 [1]
2004 [1]
2002 [1]
2001 [1]
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Ultra long lifetime gallium arsenide
专利
专利号: US9704706, 申请日期: 2017-07-11, 公开日期: 2017-07-11
作者:
SCHUNEMANN, PETER G.
;
ZAWILSKI, KEVIN T.
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2019/12/24
含β-H的仲胺基金属有机化合物及其制备和应用
专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201310676206.1, 申请日期: 2015-11-01, 公开日期: 2015-06-17
作者:
陈萍
;
陈君儿
;
熊智涛
;
吴国涛
;
刘彬
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2015/11/16
Star-branched rare-earth epichlorohydrin rubber has specified average molecular weight, and comprises rare-earth neodymium carboxylate, neodymium phosphonate and/or alkoxy neodymium, alkylaluminum hydride, and alcohol.
专利
申请日期: 2015-01-01, 公开日期: 2015-09-09
作者:
GUO F LI Y LI T MA H NIU H WANG Y
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/09
Method of forming a group III-nitride crystalline film on a patterned substrate by hydride vapor phase epitaxy (HVPE)
专利
专利号: US8507304, 申请日期: 2013-08-13, 公开日期: 2013-08-13
作者:
KRYLIOUK, OLGA
;
MELNIK, YURIY
;
KOJIRI, HIDEHIRO
;
ISHIKAWA, TETSUYA
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2019/12/24
Hybrid deposition system & methods
专利
专利号: EP1374282A1, 申请日期: 2004-01-02, 公开日期: 2004-01-02
作者:
SOLOMON, GLENN, S.
;
MILLER, DAVID, J.
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2019/12/30
超低圧金属-有機蒸気相エピタキシ方法によるII-VI半導体化合物の製造方法
专利
专利号: JP2002514997A, 申请日期: 2002-05-21, 公开日期: 2002-05-21
作者:
タスカー ニキル アール
;
ドールマン ドナルド アール
;
ギャラガー デニス
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提交时间:2020/01/18
Method and apparatus for producing group-III nitrides
专利
专利号: US20010006845A1, 申请日期: 2001-07-05, 公开日期: 2001-07-05
作者:
KRYLIOUK, OLGA
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2019/12/30
半導体素子の保護膜形成方法
专利
专利号: JP2846086B2, 申请日期: 1998-10-30, 公开日期: 1999-01-13
作者:
長谷川 光利
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2019/12/26
半導体レーザ装置
专利
专利号: JP2685800B2, 申请日期: 1997-08-15, 公开日期: 1997-12-03
作者:
成塚 重弥
;
石川 正行
;
板谷 和彦
;
国分 義弘
;
大場 康夫
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提交时间:2020/01/18
混晶グレーデッドエピタキシャル基板
专利
专利号: JP1995120624B2, 申请日期: 1995-12-20, 公开日期: 1995-12-20
作者:
松本 卓
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提交时间:2019/12/24
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