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三维半导体器件制造方法 专利
申请日期: 2014-05-16,
作者:  霍宗亮
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基于浅沟道隔离技术的化学机械研磨终点检测方法及系统 专利
专利号: CN201110335135.X, 申请日期: 2014-04-02, 公开日期: 2012-03-28
作者:  叶甜春;  陈岚;  徐勤志;  阮文彪
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