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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 发表日期：2014    专题：光电技术研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Influence of Collimation on Alignment Accuracy in Proximity Lithography 期刊论文 IEEE PHOTONICS JOURNAL, 2014, 卷号: 6, 期号: 4 作者:  Wang, Nan;  Jiang, Wei;  Zhu, Jiangping;  Tang, Yan;  Yan, Wei 收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2015/07/10 Collimation  moire fringe  lithography alignment   Interferometric Scheme for High-Sensitivity Coaxial Focusing in Projection Lithography 期刊论文 IEEE PHOTONICS JOURNAL, 2014, 卷号: 6, 期号: 3 作者:  Di, Chengliang;  Hu, Song;  Yan, Wei;  Li, Yanli;  Li, Guang 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2015/07/10 Interferometry  metrology  fringe analysis  phase unwrapping  lithography   Collimation Sensing With Differential Grating and Talbot Interferometry 期刊论文 IEEE PHOTONICS JOURNAL, 2014, 卷号: 6, 期号: 3 作者:  Wang, Nan;  Tang, Yan;  Jiang, Wei;  Yan, Wei;  Hu, Song 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2015/07/10 Collimation testing  moire fringe  differential grating   Influence of Collimation on Alignment Accuracy in Proximity Lithography 期刊论文 IEEE PHOTONICS JOURNAL, 2014, 卷号: 6, 期号: 4 作者:  Wang, Nan;  Jiang, Wei;  Zhu, Jiangping;  Tang, Yan;  Yan, Wei 收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2016/11/23