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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 专题：合肥物质科学研究院    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Fabrication and characterization of He-charged ODS-FeCrNi films deposited by a radio-frequency plasma magnetron sputtering technique 期刊论文 PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY, 2017, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 1-8 作者:  Song, Liang;  Wang, Xianping;  Wang, Le;  Zhang, Ying;  Liu, Wang 收藏  |  浏览/下载：155/0  |  提交时间：2018/07/04 Radio-frequency Plasma Magnetron Sputtering  He-charged Fecrni-based Film  Nanoindentation Hardness  Elastic Recoil Detection  He Implantation   Deposition and Characterization of Mg Doped CuCrO2 Films by DC Magnetron Sputtering 期刊论文 key engineering materials, 2014, 卷号: 609-610, 期号: 无, 页码: 255-259 作者:  Wu Su-Zhen;  Deng Zan-Hong;  Dong Wei-Wei;  Shao Jing-Zhen;  Fang Xiao-Dong 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2015/11/17 能量过滤磁控溅射技术制备ITO薄膜及其特性研究 期刊论文 真空科学与技术学报, 2011, 卷号: 031 作者:  姚宁;  常立红;  韩昌报;  邢宏伟;  葛亚爽 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2020/11/23 ITO薄膜  光电性能  表面粗糙度  磁控溅射  能量过滤磁控溅射   Effect of Al content on the microstructure and mechanical properties of Mo–Al–Si–Nfilms synthesized by DC magnetron sputtering 期刊论文 Surface & Coatings Technology, 2010, 期号: 204 Z.G. Yuan; J.F. Yang; X.P. Wang; Q.F. Fang 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2011/09/22