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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 内容类型：专利     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 一种用负性化学放大抗蚀剂曝光亚50nm图形的方法 专利 专利号: CN200510008008.3, 申请日期: 2008-05-28, 公开日期: 2006-08-16 作者:  徐秋霞;  刘明;  王云翔;  陈宝钦 收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2010/11/26