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窄条宽化学气相沉积选区生长InP系材料波长调制的研究 期刊论文
中国激光, 2002, 卷号: A29, 期号: 9, 页码: 832-836
作者:  王圩
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ECR Plasma CVD法淀积介质膜技术在半导体光电器件中的应用 期刊论文
半导体学报, 1999, 卷号: 20, 期号: 9, 页码: 837
茅冬生; 谭满清
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