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北京大学 [1]
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期刊论文 [5]
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1993 [5]
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发表日期:1993
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INTERFACIAL REACTIONS ON ANNEALING CU/AL MULTILAYER THIN-FILMS
期刊论文
Journal of Applied Physics, 1993, 卷号: 74, 期号: 10, 页码: 6165-6169
H. G. Jiang
;
J. Y. Dai
;
H. Y. Tong
;
B. Z. Ding
;
Q. H. Song
;
Z. Q. Hu
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2012/04/14
growth kinetics
copper
interdiffusion
aluminum
couples
bilayers
silicon
INTERDIFFUSION STUDY OF AMORPHOUS NI-SI MULTILAYER AT LOW-TEMPERATURE
期刊论文
Journal of Applied Physics, 1993, 卷号: 74, 期号: 4, 页码: 2471-2474
W. H. Wang
;
H. Y. Bai
;
W. K. Wang
收藏
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2012/04/14
modulation wavelength
silicon
diffusion
films
metals
EFFECTS OF ION-BEAM DEFECT ENGINEERING ON CARRIER CONCENTRATION PROFILES IN 50-KEV P+-IMPLANTED SI(100)
期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 1993, 卷号: 62, 期号: 24, 页码: 3183
ZHAO, QT
;
WANG, ZL
;
XU, TB
;
ZHU, PR
;
ZHOU, JS
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2013/09/17
ANOMALOUS DIFFUSION
BORON-DIFFUSION
SILICON
REDUCTION
MAGNETIC-PROPERTIES AND MICROSTRUCTURES OF DENSE BRANCHING MORPHOLOGY OBSERVED IN BI/AL/MN/SIO MULTILAYERS
期刊论文
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1993, 卷号: 73, 期号: 10, 页码: 6118
SHANG, CH
;
HUANG, D
;
LUO, HL
;
WANG, YJ
;
KONG, LC
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浏览/下载:13/0
  |  
提交时间:2013/09/18
GROWTH
EFFECTS OF ION-BEAM DEFECT ENGINEERING ON CARRIER CONCENTRATION PROFILES IN 50-KEV P+-IMPLANTED SI(100)
期刊论文
应用物理学快报, 1993
ZHAO, QT
;
WANG, ZL
;
XU, TB
;
ZHU, PR
;
ZHOU, JS
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/11/10
ANOMALOUS DIFFUSION
BORON-DIFFUSION
SILICON
REDUCTION
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