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科研机构
半导体研究所 [6]
内容类型
期刊论文 [6]
发表日期
2000 [2]
1999 [1]
1998 [2]
1997 [1]
学科主题
半导体材料 [5]
半导体物理 [1]
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Influence of phosphine flow rate on Si growth rate in gas source molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 2000, 卷号: 220, 期号: 4, 页码: 461-465
Gao F
;
Huang DD
;
Li JP
;
Lin YX
;
Kong MY
;
Sun DZ
;
Li JM
;
Lin LY
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浏览/下载:39/0
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提交时间:2010/08/12
Si growth rate
P doping
PH3 flow rate
P segregation
GSMBE
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
SI1-XGEX
PHOSPHORUS
SI2H6
DISILANE
SI(100)
MBE
A surface kinetics model for the growth of Si1-xGex by UHV/CVD using SiH4/CeH4
期刊论文
journal of crystal growth, 2000, 卷号: 218, 期号: 2-4, 页码: 245-249
Yu Z
;
Li DZ
;
Cheng BW
;
Huang CJ
;
Lei ZL
;
Yu JZ
;
Wang QM
;
Liang JW
收藏
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浏览/下载:47/0
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提交时间:2010/08/12
SiGe/Si
epitaxial growth
surface reaction kinetics
UHV/CVD system
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION
ATOMIC-HYDROGEN
ADSORPTION
SI(100)
SI2H6
SIH4
MECHANISMS
DESORPTION
PHASE
FILMS
Enhanced hydrogen desorption from Si sites during low-temperature Si1-xGex growth by disilane and solid-Ge molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of applied physics, 1999, 卷号: 85, 期号: 9, 页码: 6920-6922
Liu JP
;
Huang DD
;
Li JP
;
Lin YX
;
Sun DZ
;
Kong MY
收藏
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浏览/下载:43/0
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提交时间:2010/08/12
GAS-SOURCE MBE
KINETICS
ADSORPTION
SILICON
SI(100)
MECHANISM
SI2H6
PHASE
FILMS
Low-temperature growth properties of Si1-xGex by disilane and solid-Ge molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 1998, 卷号: 193, 期号: 4, 页码: 535-540
Liu JP
;
Kong MY
;
Li JP
;
Liu XF
;
Huang DD
;
Sun DZ
收藏
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浏览/下载:34/0
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提交时间:2010/08/12
Si1-xGex alloys
low temperature epitaxy
desorption
adsorption
surface morphology
growth kinetics
HYDROGEN DESORPTION
SI(100)
SI
SURFACTANT
GERMANIUM
MECHANISM
KINETICS
ALLOYS
SI2H6
GAS-SOURCE MBE
Structural characterization of SiGe/Si single wells grown by disilane and solid-Ge molecular beam epitaxy with varied disilane cracking temperature
期刊论文
journal of crystal growth, 1998, 卷号: 194, 期号: 3-4, 页码: 426-429
Liu JP
;
Kong MY
;
Huang DD
;
Li JP
;
Sun DZ
收藏
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浏览/下载:31/0
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提交时间:2010/08/12
X-ray diffraction
SiGe/Si
disilane cracking
dynamic simulation
PHOTOLUMINESCENCE
SILICON
LAYERS
SI2H6
DISORDERED SUPERLATTICES
Ge composition saturation behavior during low-temperature Si1-xGex growth by disilane and solid Ge molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 1997, 卷号: 181, 期号: 4, 页码: 441-445
Liu JP
;
Liu XF
;
Li JP
;
Sun DZ
;
Kong MY
收藏
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浏览/下载:23/0
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提交时间:2010/11/17
Si1-xGex alloys
low-temperature epitaxy
composition dependence
growth kinetics
GAS-SOURCE MBE
SI2H6
SEGREGATION
DEPENDENCE
KINETICS
FILMS
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