QQ客服 官方微博 反馈留言

浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序作者升序作者降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序 A mixed elastohydrodynamic lubrication model for simulation of chemical mechanical polishing with double-layer structure of polishing pad 期刊论文 INTERNATIONAL JOURNAL OF ADVANCED MANUFACTURING TECHNOLOGY, 2015, 卷号: 77, 页码: 107-116 作者:  Zhou, Ping;  Dong, Zhigang;  Kang, Renke;  Jin, Zhuji;  Guo, Dongming 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2019/12/09 Chemical mechanical polishing  Elastohydrodynamic lubrication  Multi-layered elastic theory  Wafer  Material removal rate