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放电气体对ECR-PECVD法制备微晶硅薄膜的影响 期刊论文
材料研究学报, 2013, 期号: 3, 页码: 307-311
程华; 钱永产; 薛军; 吴爱民; 石南林
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Ar流量对ECR-PECVD制备氢化纳米晶硅薄膜结构及性能影响研究 期刊论文
人工晶体学报, 2013, 卷号: 42, 页码: 1750-1756
作者:  张学宇;  吴化;  刘耀东;  吴爱民
收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/11
Influence of Ar/H-2 ratio on the characteristics of boron-doped nc-Si:H films prepared by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition 期刊论文
8th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE), 2013, 卷号: 228, 页码: S412-S415
作者:  Zhang, Xueyu;  Wu, Aimin;  Shi, Shaofei;  Qin, Fuwen
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Influence of Ar/H-2 ratio on the characteristics of phosphorus-doped hydrogenated nanocrystalline silicon films prepared by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition 期刊论文
3rd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology (ICMAP), 2012, 卷号: 521, 页码: 181-184
作者:  Zhang, Xueyu;  Wu, Aimin;  Shi, Shaofei;  Qin, Fuwen;  Bian, Jiming
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基片温度对微晶硅薄膜微观结构和光学性能的影响 期刊论文
材料研究学报, 2011, 期号: 4, 页码: 408-412
程华; 王萍; 崔岩; 吴爱民; 石南林
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ECR-PECVD制备纳米硅颗粒薄膜 期刊论文
哈尔滨工程大学学报, 2011, 卷号: 32, 页码: 830-834
作者:  胡娟;  吴爱民;  岳红云;  张学宇;  秦福文
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Preparation of p-type microcrystal Si:H films by ECR-PECVD 会议论文
7th International Forum on Advanced Material Science and Technology, Dalian, PEOPLES R CHINA, 2010-06-26
作者:  Zhang Xue-yu;  Wu Ai-min;  Yue Hong-yun;  Hu Juan;  Wen Li-shi
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用等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅薄膜 期刊论文
材料研究学报, 2010, 期号: 5, 页码: 547-549
程华; 张昕; 张广城; 刘汝宏; 吴爱民; 石南林
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高效薄膜太阳电池中纳米硅薄膜的制备和结构研究 学位论文
: 大连理工大学, 2010
作者:  胡娟
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ECR-PECVD制备n型微晶硅薄膜的研究 期刊论文
人工晶体学报, 2010, 卷号: 39, 页码: 852-856
作者:  张学宇;  吴爱民;  冯煜东;  胡娟;  岳红云
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