QQ客服 官方微博 反馈留言

浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 集成电路中的晶化点缺陷分析 期刊论文 电子元件与材料, 2014, 卷号: 33, 页码: 87-90 作者:  黄姣英;  胡振益;  张晓雯;  高成 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2020/01/06 集成电路  晶化点  缺陷  失效  金属化工艺  可靠性   ALsi金属化工艺和Ti/ALsi金属化工艺对大面积PIN光电二极管芯片暗电流的影响 其他 2001-01-01 王玮; 张太平; 宁宝俊; 王兆江; 张录 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2015/11/11 PIN光电二极管  暗电流要求  溅射  金属化工艺