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大连理工大学 [2]
微电子研究所 [1]
上海应用物理研究所 [1]
上海技术物理研究所 [1]
内容类型
学位论文 [2]
期刊论文 [2]
会议论文 [1]
发表日期
2017 [1]
2013 [2]
2009 [1]
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ICP刻蚀气压对碲镉汞电学性能的影响
期刊论文
半导体光电, 2017, 期号: 1, 页码: 61-65
作者:
操神送
;
杜云辰
;
朱龙源
;
兰添翼
;
赵水平
收藏
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浏览/下载:23/0
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提交时间:2018/11/20
ICP干法刻蚀
碲镉汞光导材料
刻蚀气压
电学特性
大气压微细冷等离子体射流特性及其无掩膜刻蚀研究
学位论文
: 大连理工大学, 2013
作者:
李冉
收藏
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2019/12/13
大气压冷等离子体
电晕放电
介质阻挡放电
无掩膜刻蚀
射流特性
射频感应耦合等离子体的模式跳变及偏压效应的实验研究
会议论文
第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医学研讨会论文集中国力学学会;中国物理学会;中国核学会, 上海, 2013-08-15
作者:
高飞
;
刘巍
;
张钰如
;
赵书霞
;
李雪春
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/11
等离子体密度
离子能量
等离子体源
工作气压
刻蚀工艺
感应耦合
辅助加工
半导体芯片
电子密度
发光强度
金刚石、纳米、超纳米金刚石薄膜的生长与刻蚀研究
学位论文
博士, 上海应用物理研究所: 中国科学院上海应用物理研究所, 2009
杨树敏
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浏览/下载:79/0
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提交时间:2012/04/11
化学气相沉积
金刚石
气压
刻蚀
常压射频激励低温冷等离子体刻蚀光刻胶
期刊论文
半导体学报, 2005, 卷号: 26, 期号: 3, 页码: 5,613-617
作者:
赵玲利
;
李海江
;
王守国
;
叶甜春
收藏
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2010/05/26
大气压
冷等离子体
光刻胶
刻蚀
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