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硅基锗薄膜的选择性外延生长
期刊论文
2017, 卷号: 54, 期号: 2, 页码: 136-141
作者:
吴细鹏
;
王桂磊
;
李志华
;
唐波
;
张青竹
收藏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2019/12/31
减压化学气相沉积(RPCVD)
选择性外延
锗(Ge)
硅基探测器
光电器件
SiGe薄膜的RPCVD负载影响及特性研究
期刊论文
材料导报, 2012, 期号: 14, 页码: 22-24+32
作者:
陈达
;
刘林杰
收藏
  |  
浏览/下载:2/0
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提交时间:2015/04/27
薄膜
减压化学气相沉积
硅锗
负载影响
SiGe薄膜的RPCVD负载影响及特性研究
期刊论文
材料导报, 2012, 期号: 14, 页码: 22-24+32
陈达
;
刘林杰
;
薛忠营
;
刘肃
;
贾晓云
收藏
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浏览/下载:19/0
  |  
提交时间:2013/02/22
薄膜
减压化学气相沉积
硅锗
负载影响
多层复合结构应变硅材料的生长和特性
期刊论文
2010, 2010
梁仁荣
;
王敬
;
徐阳
;
许军
;
李志坚
;
LIANG Renrong
;
WANG Jing
;
XU Yang
;
XU Jun
;
LI Zhijian
收藏
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