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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Study on atomic layer etching of Si in inductively coupled Ar/Cl-2 plasmas driven by tailored bias waveforms 期刊论文 PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY, 2017, 卷号: 19 作者:  Ma, Xiaoqin;  Zhang, Saiqian;  Dai, Zhongling;  Wang, Younian 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/09 atomic layer etching  multi-scale model  tailored bias voltage waveforms  ion energy and angular distributions   A Multi-Scale Study on Silicon-Oxide Etching Processes in C4F8/Ar Plasmas 期刊论文 PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY, 2016, 卷号: 18, 页码: 666-673 作者:  Sui Jiaxing;  Zhang Saiqian;  Liu Zeng;  Yan Jun;  Dai Zhongling 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/09 plasma etching  multi-scale model  trench profile  surface process   Ion Transport to a Photoresist Trench in a Radio Frequency Sheath 期刊论文 PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY, 2012, 卷号: 14, 页码: 958-964 作者:  Zhang Saiqian;  Dai Zhongling;  Wang Younian 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/13 ion motion  IED  IAD  charging effect  sheath  plasma etching  CCP