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科研机构
四川大学 [3]
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期刊论文 [3]
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2002 [3]
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One-step lithography for fabrication of multifunction diffractive structures with grey-tone mask
期刊论文
Microelectronic Engineering, 2002, 卷号: Vol.61-62, 页码: 165-171
作者:
Fuhua Gao
;
Jun Yao
;
Yangsu Zeng
;
Shiwei Xie
;
Yongkang Guo and Zheng Cui
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提交时间:2019/02/25
Grey-tone photolithography
Grey scale mask
Beam sampling grating
Colour separation grating
Electron-beam lithography to improve quality of computer-generated hologram
期刊论文
Microelectronic Engineering, 2002, 卷号: Vol.61-62, 页码: 363-369
作者:
Feng Gao
;
Jianhua Zhu
;
Qizhong Huang
;
Yixiao Zhang
;
Yangsu Zeng
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提交时间:2019/02/25
Computer generated hologram
Electron beam lithography
Investigation of phase shift mask distortion effect
期刊论文
Microelectronic Engineering, 2002, 卷号: Vol.61-62, 页码: 265-270
作者:
Jinglei Du
;
Zheng Cui
;
XiaoCong Yuan and Yongkang Guo
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提交时间:2019/02/25
Phase shift mask
Optical lithography simulation
Optical proximity effect
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