×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
北京大学 [9]
半导体研究所 [3]
西安光学精密机械研究... [3]
厦门大学 [2]
光电技术研究所 [2]
清华大学 [1]
更多...
内容类型
期刊论文 [8]
其他 [7]
专利 [3]
学位论文 [2]
会议论文 [1]
发表日期
2015 [1]
2014 [1]
2013 [2]
2010 [1]
2005 [2]
2004 [1]
更多...
学科主题
半导体物理 [2]
Annealing ... [1]
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共21条,第1-10条
帮助
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
宽禁带半导体材料的光电特性研究
学位论文
博士: 中国科学院大学, 2015
作者:
王丹丹
收藏
  |  
浏览/下载:85/0
  |  
提交时间:2015/11/30
宽禁带半导体
氧化锌
石墨
碳化硅
硒化锌
晶格动力学
Germanium n+/p shallow junction with record rectification ratio formed by low-temperature preannealing and excimer laser annealing
期刊论文
http://dx.doi.org/10.1109/TED.2014.2332461, 2014
Wang, Chen
;
Li, Cheng
;
Lin, Guangyang
;
Lu, Weifang
;
Wei, Jiangbin
;
Huang, Wei
;
Lai, Hongkai
;
Chen, Songyan
;
Di, Zengfeng
;
Zhang, Miao
;
李成
;
黄巍
;
赖虹凯
;
陈松岩
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2015/07/22
Annealing
Excimer lasers
MOSFET devices
Phosphorus
Temperature
Optical and photo-carrier characterization of ultra-shallow junctions in silicon
期刊论文
SCIENCE CHINA-PHYSICS MECHANICS & ASTRONOMY, 2013, 卷号: 56, 期号: 7, 页码: 1294-1300
作者:
Huang QiuPing
;
Li BinCheng
;
Ren ShengDong
收藏
  |  
浏览/下载:21/0
  |  
提交时间:2015/04/17
photocarrier radiometry
spectroscopic ellipsometry
photoluminescence
ultra-shallow junctions
silicon
Optical and photo-carrier characterization of ultra-shallow junctions in silicon
期刊论文
Science China: Physics, Mechanics and Astronomy, 2013, 卷号: 56, 期号: 7, 页码: 1294-1300
作者:
Huang, Qiuping
;
Li, Bincheng
;
Ren, Shengdong
收藏
  |  
浏览/下载:11/0
  |  
提交时间:2016/11/21
Finite element simulation of pollutant mixing zones in streams entering the Three Gorges Reservoir
期刊论文
2010, 2010
Jiang Chunbo
;
Li Kai
;
Li Ping
;
Cheng Zhiqiang
收藏
  |  
浏览/下载:5/0
The role of surface annihilation in annealing investigated by atomic model simulation
其他
2005-01-01
Yu, M
;
Zhang, X
;
Huang, R
;
Zhang, X
;
Wang, YY
;
Zhang, JY
;
Oka, H
收藏
  |  
浏览/下载:5/0
  |  
提交时间:2015/11/13
ION-IMPLANTATION
SILICON
DEFECTS
The role of surface annihilation in annealing investigated by atomic model simulation
其他
2005-01-01
Yu, Min
;
Zhang, Xiao
;
Huang, Ru
;
Zhang, Xing
;
Wang, Yangyuan
;
Zhang, Jinyu
;
Oka, Hideki
收藏
  |  
浏览/下载:1/0
  |  
提交时间:2015/11/13
Studying shallow junction technology by atomistic modeling
其他
2004-01-01
Yu, Min
;
Huang, Ru
;
Shi, Xiaokang
;
Ji, Huihui
;
Zhang, Xing
;
Wang, Yangyuan
;
Oka, Hideki
收藏
  |  
浏览/下载:4/0
  |  
提交时间:2015/11/13
An elevated source/drain-on-insulator structure to maximize the intrinsic performance of extremely scaled MOSFETs
期刊论文
固体电子学, 2003
Zhang, ZK
;
Zhang, SD
;
Feng, CG
;
Chan, MS
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2015/11/12
SDOI
STI
double spacer process
parasitic junction capacitance
series resistance
Atomistic simulation for shallow junction formation
期刊论文
2003
Oka, H
;
Suzuki, K
;
Zhang, JY
;
Min, Y
;
Ru, H
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2015/11/16
ENHANCED DIFFUSION
ION-IMPLANTATION
SILICON
DEFECT
SI
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace