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一种薄膜样品全自动裁切方法与装置 专利
专利号: ZL201910879174.2, 申请日期: 2021-03-02,
作者:  花昌义;  李志刚;  叶超;  王善锋;  孙淼
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Si薄膜和BFO薄膜阻变存储特性研究 学位论文
: 河北大学, 2015
作者:  陈英方[1]
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PECVD制备a-Si:H(nc-Si:H)/a-SiC:H多层薄膜的光电特性研究 学位论文
: 河北大学, 2015
作者:  刘宝元[1]
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掺磷nc-Si:H薄膜的微结构与光电特性 期刊论文
人工晶体学报, 2015, 卷号: 44, 期号: 10, 页码: 2756-2761
作者:  刘利[1];  马蕾[2];  吴一[3];  范志东[4];  郑树凯[5]
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氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响 期刊论文
稀有金属材料与工程, 2014, 卷号: 43, 期号: 4, 页码: 977-981
作者:  姜金龙;  陈娣;  王琼;  杨华;  魏智强
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Si基纳米薄膜光伏材料的制备、结构表征与光电特性 学位论文
: 河北大学, 2014
作者:  马蕾[1]
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p-i-n结构nc-Si:H薄膜太阳电池的制备与光电性能研究 学位论文
: 河北大学, 2014
作者:  陈乙豪[1]
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a-Si:H(nc-Si:H)/a-SiC:H多层薄膜的制备与光电特性研究 学位论文
: 河北大学, 2014
作者:  蒋冰[1]
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Ar流量对ECR-PECVD制备氢化纳米晶硅薄膜结构及性能影响研究 期刊论文
人工晶体学报, 2013, 卷号: 42, 页码: 1750-1756
作者:  张学宇;  吴化;  刘耀东;  吴爱民
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衬底温度对nc-Si:H 薄膜微结构和氢键合特征的影响 期刊论文
人工晶体学报, 2013, 卷号: 42, 期号: 10, 页码: 2033-2037,2042
作者:  陈乙豪[1];  蒋冰[2];  马蕾[3];  李钗[4];  彭英才[5]
收藏  |  浏览/下载:3/0  |  提交时间:2019/12/21


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