CORC  > 河北大学
掺磷nc-Si:H薄膜的微结构与光电特性
刘利[1]; 马蕾[2]; 吴一[3]; 范志东[4]; 郑树凯[5]; 刘磊[6]; 彭英才[7]
刊名人工晶体学报
2015
卷号44期号:10页码:2756-2761
关键词磷掺杂氢化纳米晶硅薄膜 晶化率 界面体积分数 光吸收系数 暗电导率
ISSN号1000-985X
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5072503
专题河北大学
作者单位1.[1]河北大学电子信息工程学院,保定,071002[2]河北大学电子信息工程学院,保定071002
2.河北大学计算材料研究中心,保定071002
3.河北大学医工交叉研究中心,保定071002[3]河北大学电子信息工程学院,保定,071002[4]河北大学电子信息工程学院,保定,071002[5]河北大学电子信息工程学院,保定071002
4.河北大学计算材料研究中心,保定071002
5.河北大学医工交叉研究中心,保定071002[6]河北大学电子信息工程学院,保定071002
6.河北大学计算材料研究中心,保定071002
7.河北大学医工交叉研究中心,保定071002[7]河北大学电子信息工程学院,保定,071002
推荐引用方式
GB/T 7714
刘利[1],马蕾[2],吴一[3],等. 掺磷nc-Si:H薄膜的微结构与光电特性[J]. 人工晶体学报,2015,44(10):2756-2761.
APA 刘利[1].,马蕾[2].,吴一[3].,范志东[4].,郑树凯[5].,...&彭英才[7].(2015).掺磷nc-Si:H薄膜的微结构与光电特性.人工晶体学报,44(10),2756-2761.
MLA 刘利[1],et al."掺磷nc-Si:H薄膜的微结构与光电特性".人工晶体学报 44.10(2015):2756-2761.
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