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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 PECVD SiC材料刻蚀技术 期刊论文 半导体学报, 2006 陈晟; 李志宏; 张国炳; 郭辉; 王煜; 田大宇 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2015/11/12 PECVD 碳化硅 反应离子刻蚀 电感耦合离子刻蚀 氢含量 功率   PECVD SiC材料刻蚀技术研究 其他 2005-01-01 陈晟; 李志宏; 张国炳; 郭辉; 王煜; 田大宇; 李素兰; 边伟 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2015/11/11 PECVD碳化硅  反应离子刻蚀  电感耦合离子刻蚀  氢含量  功率  压强  刻蚀速率