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| 痕量气体同位素富集系统和方法 专利 专利号: CN108479394A, 申请日期: 2018-09-04, 公开日期: 2018-09-04 作者: 孙良亭; 卢征天; 武启; 杨伟顺; 刘建立 收藏  |  浏览/下载:29/0  |  提交时间:2018/12/27 |
| 带有扩散腔室的多源驱动的感性耦合放电的混合模拟 学位论文 : 大连理工大学, 2018 作者: 孙婷婷 收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2019/12/02
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| 一种用于飞行时间质谱的磁控溅射团簇离子源 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN201310291516.1, 申请日期: 2015-11-01, 公开日期: 2015-01-14 作者: 唐紫超; 秦正波; 张世宇 收藏  |  浏览/下载:62/0  |  提交时间:2015/11/16 |
| 一种低硼掺杂下高电导率氢化非晶硅薄膜的制备方法 专利 专利类型: 发明, 专利号: 11, 申请日期: 2013-10-09, 公开日期: 2013-12-16, 2013-12-16, 2013-12-16 王维燕; 王林青; 黄金华; 黄俊俊; 曾俞衡; 宋伟杰; 谭瑞琴 收藏  |  浏览/下载:58/0  |  提交时间:2013/12/16 |
| 霍尔离子源辅助制备碳化硅改性薄膜 期刊论文 红外与激光工程, 2008, 期号: 4 高劲松; 王彤彤; 宋琦; 王笑夷; 陈红; 郑宣鸣; 范镝 收藏  |  浏览/下载:15/0  |  提交时间:2012/09/25
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| 低能高束流氩离子源的结构及性能 期刊论文 核技术, 2006, 卷号: 29, 页码: 730-733 作者: 任春生; 牟宗信; 王友年 收藏  |  浏览/下载:1/0  |  提交时间:2019/12/27
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| 低压反应离子镀方法制备碳锗合金膜 (发明) 专利 专利类型: 发明专利, 申请日期: 2004-12-15, 公开日期: 2012-08-29 王笑夷; 高劲松 收藏  |  浏览/下载:15/0  |  提交时间:2012/08/29 |
| SEELFS对几种物质表面原子键长的研究 期刊论文 物理化学学报, 2000 梁健; 黄惠忠; 刘载维; 汪卓 收藏  |  浏览/下载:2/0  |  提交时间:2015/10/24
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| 反应离子束刻蚀金刚石薄膜图形工艺 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN1224077, 申请日期: 1999-01-01, 公开日期: 1999-07-28 任琮欣; 江炳尧; 王效东; 杨艺榕 收藏  |  浏览/下载:28/0  |  提交时间:2012/01/10 |
| 高电荷态离子与气体原子的碰撞 期刊论文 原子与分子物理学报, 1998, 期号: S1, 页码: 2 作者: 刘惠萍; 马新文; 杨治虎; 王友德; 陈熙萌 收藏  |  浏览/下载:5/0  |  提交时间:2016/07/18
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