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| 基于新材料的光电探测器与忆阻器研究 学位论文
中国科学院半导体研究所: 中国科学院大学, 2019
作者: 程传同
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| 无残留光学光刻胶石墨烯FET的制备及原位表征方法 专利
专利号: CN201410763616.4, 申请日期: 2017-07-28, 公开日期: 2015-03-25
作者: 史敬元; 彭松昂; 金智; 张大勇; 王选芸
收藏 | 浏览/下载：12/0 | 提交时间：2018/02/07 |
| 一种制备表面增强拉曼光谱基底的方法及其基底 专利
专利号: CN104634772A, 申请日期: 2015-05-20, 公开日期: 2015-05-20
作者: 刘星; 邰仁忠; 吴衍青; 杨树敏; 赵俊
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| 一种改善用于Al2O3介质层上的光刻工艺的方法 专利
专利号: CN201310681200.3, 申请日期: 2015-04-15, 公开日期: 2014-03-19
作者: 刘宇; 张凯平; 刘明; 谢常青; 龙世兵
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| 干胶膜在微图案制作中的应用研究 期刊论文
2011
陶巍; 杜江
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| 母盘刻录中信息符成形模拟与实验研究 期刊论文
2010, 2010
宋洁; 陈垦; 徐端颐; 潘龙法; 倪屹; 张启程; SONG Jie; CHEN Ken; XU Duan-yi; PAN Long-fa; NI Yi; ZHANG Qi-cheng
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| 多阶游程受限光盘母盘刻录的建模与工艺 期刊论文
2010, 2010
唐毅; 宋洁; 潘龙法; TANG Yi; SONG Jie; PAN Long-fa
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| 一次掩膜光刻同时定义有机薄膜晶体管源漏栅电极的方法 专利
专利号: CN200710177796.8, 申请日期: 2010-01-27, 公开日期: 2009-05-27
作者: 甄丽娟; 刘明; 刘兴华; 商立伟
收藏 | 浏览/下载：9/0 | 提交时间：2010/11/26 |
| 利用S18系列正性光刻胶制作倒梯形剖面结构的方法 专利
专利号: CN101562129, 申请日期: 2009-10-21, 公开日期: 2009-10-21
作者: 金智
收藏 | 浏览/下载：4/0 | 提交时间：2010/11/26 |
| HSQ用于电子束曝光的性能分析 期刊论文
微细加工技术, 2008, 期号: 4, 页码: 4，10-13
作者: 赵珉; 陈宝钦; 刘明; 谢常青; 朱效立
收藏 | 浏览/下载：22/0 | 提交时间：2010/05/27
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