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平面工艺功率型半导体晶体管铝迁移实验 期刊论文
北京航空航天大学学报, 2011, 卷号: 37, 页码: 1515-1518
作者:  Lü, Weimin;  Hu, Dong;  Xie, Jinsong;  Weng, Lu
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用SIPOS-SiO_2复合层对4H-SiCn~+pp~+结构钝化的分析 期刊论文
半导体学报/Pan Tao Ti Hsueh Pao/Chinese Journal of Semiconductors, 2000, 卷号: 21, 期号: 7, 页码: 686-690
作者:  姜岩峰;  李思渊;  刘肃;  曹磊;  薄建军
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LPCVD制备SIPOS薄膜淀积工艺的研究 期刊论文
西安电子科技大学学报(自然科学版), 2000, 期号: 3, 页码: 309-311
作者:  刘红侠;  郝跃;  朱秉升
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掺氧半绝缘多晶硅(SIPOS)薄膜的研制及钝化技术的应用 学位论文
1995
作者:  刘红侠
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掺氧半绝缘多晶体硅(SIPOS)的制备、性质及钝化作用 学位论文
1994
作者:  侯宇
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掺氧半绝缘多晶硅薄膜的制备及性质 学位论文
1993
作者:  田宏
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掺氧多晶硅薄膜的组分分析 期刊论文
半导体学报, 1984, 期号: 05
王云珍; 陈心和; 李月珍
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