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| 一种应用于钕铁硼的非晶铝锰涂层的HIPIMS制备方法 专利
专利号: ZL202010418357.7, 申请日期: 2021-03-05, 公开日期: 2021-03-05
作者: 夏原; 李光
  收藏 | 浏览/下载：9/0 | 提交时间：2021/11/23 |
| 偏压对Cr-Si-N涂层的结构与性能的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2016, 卷号: 36, 期号: 4, 页码: 418-424
贾丛丛; 李沛; 葛芳芳; 王恩青; 黄峰; 鲁晓刚
收藏 | 浏览/下载：22/0 | 提交时间：2016/09/18
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| 离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响 期刊论文
材料热处理学报, 2015, 卷号: 36, 期号: 6, 页码: 164-168
作者: 魏俊俊; 朱小研; 陈良贤; 刘金龙; 黑立富
收藏 | 浏览/下载：48/0 | 提交时间：2015/12/25
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| 基片偏压对磁控溅射制备TiB_2涂层结构及性能的影响 期刊论文
航空材料学报, 2014, 卷号: 5, 页码: 37-42
谷文翠; 李寿德; 王怀勇; 陈春立; 李朋; 黄峰
收藏 | 浏览/下载：14/0 | 提交时间：2015/04/16 |
| 射频感性耦合碳氟性等离子体的放电机理和基片偏压效应的研究 项目
2013-
作者: 赵书霞
收藏 | 浏览/下载：1/0 | 提交时间：2019/12/13 |
| 磁性纳米颗粒中的交换偏置和磁卡效应，磁性薄膜中的交换耦合效应和铁磁、铁电薄膜体系中的隧道电阻效应 学位论文
博士, 北京: 中国科学院金属研究所, 2012
刘雄华
收藏 | 浏览/下载：169/0 | 提交时间：2013/04/12
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| 基片偏压对电弧离子镀ZrN薄膜微结构和表面形貌的影响 期刊论文
中国有色金属学报(英文版), 2012, 卷号: 第22卷, 页码: 115-119
作者: 张敏; 胡小刚; 杨晓旭; 徐菲菲; 金光浩
收藏 | 浏览/下载：3/0 | 提交时间：2019/03/04
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| 基片离子均匀注入的方法 专利
申请日期: 2010-06-25,
作者: 汪明刚; 刘杰; 夏洋; 李超波; 罗威
收藏 | 浏览/下载：3/0 | 提交时间：2016/10/10 |
| Chemical Vapor Deposition and Etching of Micro-,Nano-and Ultrananocrystalline Diamond Thin Films 学位论文
博士, 上海应用物理研究所: 中国科学院上海应用物理研究所, 2009
SobiaAllahRakha
收藏 | 浏览/下载：60/0 | 提交时间：2012/04/11
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| 电弧离子镀制备(Ti,Al)N薄膜的残余应力的研究 学位论文
博士, 金属研究所: 中国科学院金属研究所, 2009
赵升升
收藏 | 浏览/下载：29/0 | 提交时间：2012/04/10
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