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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 限定条件 专题：四川大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓 期刊论文 光电工程, 2006, 卷号: 第4期, 页码: P50-54 作者:  段茜;  姚欣;  陈铭勇;  马延琴;  刘世杰 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/02/28 厚层抗蚀剂曝光模型　　显影轮廓　　显影线宽　　边墙陡度   厚层抗蚀剂曝光模型及其参数测量 期刊论文 半导体学报, 2005, 卷号: 第5期, 页码: P1065-1071 作者:  刘世杰;  杜惊雷;  段茜;  罗铂靓;  唐雄贵 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/02/28 厚层抗蚀剂　　光刻　　曝光　　增强Dill模型　　曝光参数